賽默飛EscaLabXi+ X射線光電子能譜儀特點：

高靈敏度能譜

小面積 XPS

深度剖析能力

角分辨 XPS

標配離子散射能譜 (ISS)功能

標配反射電子能量損失譜 (REELS)功能

標配“樣品預處理"室

多技術分析的多功能性

多個樣品制備技術可選

全自動無人值守式分析

多樣品分析

單色化X射線源

雙晶體微聚焦單色器配備一個 500 mm 直徑的羅蘭圓，使用鋁陽極靶

樣品 X 射線光斑尺寸可選擇范圍為 200 至 900 μm

透鏡、分析儀和檢測器

透鏡、分析儀和檢測器構成XPS檢測系統(tǒng)+XPS光譜儀在成像和微區(qū)方面的分析能力都是單一的

兩種類型的檢測器可以確保為每種分析提供最佳檢測——用于成像的二維檢測器和適用于高計數(shù)率檢測的電子倍增器

透鏡配備了兩個電腦控制的虹膜機構 - 一個允許用戶將透鏡的視野控制在<20μm以下進行微區(qū)分析，另一個控制透鏡的接收角度，以便獲得高質量角度分辨數(shù)據(jù)

180° 半球型能量分析器

深度剖析

數(shù)控式 EX06 離子槍是一款高性能的離子源，哪怕在使用低能離子源時也有著很好的性能

提供方位角樣品旋轉

多技術能力

可配備其他分析技術而不降低 XPS 檢測性能

使用 EX06 離子槍時透鏡組和能量分析儀的電源可反向（確保離子散射能譜 (ISS) 可用）

電子槍可加壓升至 1000 V，為 REELS 提供優(yōu)異的離子源

技術選項

非單色化 X 射線光源的XPS分析

AES（俄歇電子能譜）

UPS（紫外光電子能譜）

賽默飛EscaLabXi+ X射線光電子能譜儀真空系統(tǒng)

5 mm 厚高導磁?金屬分析室，提高磁屏蔽效率

與使用內(nèi)部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳

樣品制備

系統(tǒng)標配一體化的快速進樣室和制備室

額外的制備室可選

Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)

集成了測試分析的所有方面，包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報告生成

允許遠程控制，并且可輕松與第三方軟件交互（例如 Microsoft Word）

管理從樣品載入到報告導出的整個分析過程