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國儀量子技術(合肥)股份有限公司

化工儀器網>產品展廳>光學儀器及設備>電子顯微鏡>掃描電鏡(SEM)> 賽默飛Talos™ F200X掃描/透射電子顯微鏡

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賽默飛Talos™ F200X掃描/透射電子顯微鏡

具體成交價以合同協(xié)議為準

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北京瑞科中儀科技有限公司一家是專門從事數碼光學顯微鏡及相關實驗室設備研發(fā)與銷售的新型高科技公司,也專注于半導體材料研究與分析設備的經銷和代理,為高校、企業(yè)科研工作者提供專業(yè)的材料分析解決方案,北京瑞科中儀科技有限公司長期代理銷售供應多種分子材料的研究分析設備,其中包括但不限于掃描電子顯微鏡、感應耦合等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)、離子束刻蝕機、等離子清洗機、物理氣相沉積系統(tǒng)以及各品牌的光學顯微鏡以及實驗室設備儀器,以專業(yè)能力導向,精細工藝流程,用科學手段解決科研中遇到的難題.彼此協(xié)作,為我國的科研領域譜寫新篇章。

公司主要產品包括:生物顯微鏡、金相顯微鏡、偏光顯微鏡、體視顯微鏡、數碼顯微鏡、顯微鏡數碼相機照相接口、顯微鏡*冷光源、數碼圖像分析系統(tǒng)、測量顯微鏡、三座標測量顯微鏡,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業(yè)專用儀器/其它半導體行業(yè)儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業(yè)專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機

公司經銷代理品牌包括:蔡司顯微鏡,奧林巴斯顯微鏡,尼康顯微鏡,徠卡顯微鏡,國產各廠家顯微鏡, 華粵行 ,基恩士 , 日本電,日立 ,布魯克,三和聯(lián), sentech(森泰克),SYSKEY(矽碁), PE(鉑金埃爾默)全系產品 ,天美愛丁堡,原子光譜,氣相色譜,PE(鉑金埃爾默)全系產品

代理經銷的產品種類包括,熒光顯微鏡,熒光顯微成像系統(tǒng),激光捕獲顯微切割,全自動切片掃描,三維超景深顯微系統(tǒng),動物超聲系統(tǒng),3D超景深顯微鏡,形貌探測顯微鏡,蔡司共聚焦顯微鏡,全自動數字切片掃描,病理切片掃描,激光切割顯微系統(tǒng),立體顯微鏡,國產激光共聚焦顯微鏡,精準醫(yī)學顯微切割,激光顯微切割系統(tǒng),按需搭建顯微系統(tǒng),熒光光譜儀,激光細胞顯微操作 拉曼顯微鏡光學儀器及設備/光學顯微鏡/熒光顯微鏡光學儀器及設備/電子顯微鏡/其它電子顯微鏡半導體行業(yè)專用儀器/其它半導體行業(yè)儀器設備其它半導體設備生命科學儀器/分子生物學儀器/PCR儀生命科學儀器/分子生物學儀器/基因測序儀生命科學儀器/分子生物學儀器/DNA合成儀半導體行業(yè)專用儀器/薄膜生長設備/其它薄膜沉積設備半導體行業(yè)專用儀器/光刻及涂膠顯影設備/無掩模光刻機/直寫光刻機


公司成立伊始,即本著“以人為本,誠信發(fā)展,合作共贏"的企業(yè)宗旨,快樂中結識新朋友,穩(wěn)步中追求新發(fā)展。目前公司已經擁有一支由專業(yè)技術人員、營銷人員和維修人員組成的強大隊伍,竭誠為廣大客戶提供包括技術咨詢、產品配套、安裝調試、應用指導、維護保養(yǎng)在內的整套細致入微的服務。同時公司還依托中國地質研究院、清華大學、中國農業(yè)大學、中科院等科研院所的強大技術實力,特聘多名教授、博士作為我公司提供多方面的技術支持。

公司儲備各顯微鏡現(xiàn)貨,只要您有需求,我們就能隨時為您提供各種產品選配服務。公司管理層、營銷隊伍和技術人員都具備多年的專業(yè)技術經驗,相信我們的質量和服務一定是顯微光學領域中無法可比的。

北京瑞科中儀科技有限公司秉承“專業(yè)的人員,過硬的技術,優(yōu)秀的產品"精神,為您提供專業(yè)、及時、周到的技術服務,北京瑞科中儀科技有限公司必將成為您值得信賴的伙伴!












顯微鏡,激光共聚焦,電鏡,x射線,激光捕獲顯微切割,熒光成像系統(tǒng),DNA/RNA合成儀,半導體行業(yè)儀器設備,生命科學儀器,光刻機,

產地類別 進口 價格區(qū)間 300萬-400萬
應用領域 化工,生物產業(yè),石油,制藥/生物制藥

默飛世爾科技的 Talos™   F200X 掃描/透射電子顯微 鏡(S/TEM)提供速,納米材料多維定 量表征。由于配備了多種創(chuàng)新功能以提高效率、精度 和使用便易度,Talos™  F200X 是學術、政府和工業(yè) 等 領域進行高級研究與分析的理想選擇。

高分辨圖像數據質量更好

賽默飛世爾科技的 Talos™   F200X S/TEM 融合了高分辨 率 STEM 和 TEM 成像,行業(yè) X 射線能量色散譜(EDS) 信號檢測,以及通過成分面掃實現(xiàn)三維化學表征等功能。利用 智能掃描引擎、基于多個STEM    探測器的四通道合并技術,以 及微分相位襯度(DPC)成像技術,賽默飛世爾科技  Velox™    S/ TEM  控制軟件顯著地改善  S/TEM  成像質量,可以更好地分析 電磁結構,并實行快速、準確的 EDS 數據處理及定量分析。

賽默飛世爾科技的高亮度 X 場發(fā)射電子槍可以在提供高達標準 肖特基場發(fā)射電子槍五倍束流的同時保持較小的會聚角。用戶 可以獲得高信噪比及STEM、EDS   圖像分辨率和更多高 分辨  TEM應用。此外,X  場發(fā)射電子槍所具有的高穩(wěn)定性及使 用壽命長等特點使其具有更高的成像效率。

顯示范圍更廣、獲取圖像速度更快Talos™  快速 D/TEM 成像支持 高分辨率以及原位動態(tài)成像。賽默飛世爾科技的 Ceta 16M™  相 機的視場范圍更大,圖像采集速率可高達每秒 25 幀。同時壓電 樣品臺可以確保高靈敏度,無漂移成像及精確樣品導航。因此    Talos™  在節(jié)約用戶時間的同時可以采集更多樣品數據。


賽默飛Talos™  F200X掃描/透射電子顯微鏡加快納米尺度范圍內分析解決問題的速度

Talos™  F200X 采用賽默飛世爾科技保護的Super-X™  集

成 EDS 系統(tǒng),它配備了4 個硅漂移 X 射線探測器 (SDD),具有  靈敏度,每秒可收集高達 105 幅能譜。通過 Super-X™  與   A-TWIN 物鏡集成,Talos™  F200X 限度地提高了 X 射線收 集效率,同時達到給定束流下(即使對低強度 EDS 信號)的理  想輸出計數率。

主要優(yōu)勢

提供更優(yōu)質的圖像:  同時進行多重信號探測的高效率 STEM 成像技術為高質量的圖像提供了更好的圖像對比度

快速獲取化學成分數據:快速,精確定量 的 EDS 分析技術以 揭 示納米級成分細節(jié)

更多應用空間:利用專用的各種原位樣品桿進行原位動態(tài)實驗

賽默飛Talos™  F200X掃描/透射電子顯微鏡

讓研究更輕松

Talos™   采用用戶友好的數字界面和人體工學設計,允許多名科學家訪問圖像和分析工作流程。快速圖像采集與簡單易用的操作平臺相結合,即使是經驗不豐富的操作員也可以快速收集結果。使用全程遙控操作,可以提高使用的便利度并增強環(huán)境穩(wěn)定性。為了保持生產率,Talos™   還配備了新的狀況監(jiān)視器,  以便收集重要的儀器參數,便于遠程診斷和支持。


賽默飛Talos™  F200X掃描/透射電子顯微鏡特征

• 領域光學性能:恒定功率 A-TWIN 物鏡

• 易用性:快速、簡單的操作切換,可用于多用戶環(huán)境

• 超穩(wěn)定平臺:恒定功率物鏡、壓電樣品臺、可靠的系統(tǒng)外殼和 遙控操作確保的穩(wěn)定性

• SmartCam 相機:數字搜索和查看相機可以提高所有應用 的處理能力,并可以在日光下操作。

• 集成的快速探測器:Ceta 16M 像素 CMOS 相機可提 供較大的視場和很高的讀取速度 (25 fps @ 512×512)

• 全程遙控操作:自動光闌系統(tǒng)與 Ceta 相機相結合,支持 全程遙控操作

• 提高分析能力:Talos™  利用 EDS 三維成像技術將化學成分分 析能力從二維擴展到三維 。


安裝要求

詳細數據,請參考預裝指南。


Talos F200X

X-FEG 亮度

1.8 ×109 A/cm2 srad (@200kV)

總束電流

> 50nA

探針電流

1.5 nA @ 1 nm probe (200 kV)

Super-X EDS 系統(tǒng)

4 SDD 對稱,無窗設計,遮板保護

能量分辨率

≤136 eV for Mn-K“ and 10 kcps (輸出)

EDS 快速面掃

像素駐留時間 低至 10 μs


A-Twin

STEM HAADF 分辨率

0.16 nm

EDX 立體角

0.9 srad

TEM 信息分辨率

0.12 nm

衍射角

24?

雙傾桿傾轉角

±35° alpha tilt / ±30° beta tilt

測角器(樣品臺)傾轉角

±90?




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