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CY-TRP 真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

參考價(jià) 189000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州市開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的研發(fā)團(tuán)隊(duì)?wèi){借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時(shí)刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界好評。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的誠信、實(shí)力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認(rèn)可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。







磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機(jī)旋涂儀,熔煉爐,涂布機(jī),放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機(jī),金剛石線切割機(jī),RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機(jī),

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 10萬-30萬
應(yīng)用領(lǐng)域 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件

真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)設(shè)備用途:  

用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。  

磁控鍍膜儀典型應(yīng)用:

•    科研領(lǐng)域:納米材料、薄膜器件、光學(xué)涂層等研究。

•    電子行業(yè):半導(dǎo)體、傳感器、導(dǎo)電薄膜制備。

•    教學(xué)演示:材料科學(xué)、真空技術(shù)實(shí)驗(yàn)教學(xué)。

•    以下是磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例,涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域,體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價(jià)值:

真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):  


真空室  

圓筒型前開門結(jié)構(gòu),尺寸?450×40mm  

真空系統(tǒng)配置  

復(fù)合分子泵、機(jī)械泵、氣動閘板閥、進(jìn)口SMC氣缸節(jié)流閥  

極限壓力  

6.6 *10-6 Pa。(經(jīng)烘烤除氣后)  

恢復(fù)真空時(shí)間  

25 分鐘可達(dá)到≤6.6×10-6 Pa。(短時(shí)間撰茲大氣并充入干燥氮?dú)夂箝_始抽氣)  

磁控靶組件  

永磁靶三套;靶材尺寸?60mm(其中一個(gè)可濺射磁性材料);各靶射頻灘射和直流裁射兼容;靶內(nèi)水冷;三個(gè)靶可共同折向上面的樣品中心;靶與樣品距離 90~130mm可調(diào);每個(gè)靶配進(jìn)口 SMC 旋轉(zhuǎn)氣動擋板  

單基片加熱臺  

樣品尺寸  

?4英寸  

運(yùn)動方式  

基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速 030 轉(zhuǎn)/  

加熱  

進(jìn)口加熱絲加熱,zui高加熱溫度 600 ±1  

擋板形式  

進(jìn)口 SMC 轉(zhuǎn)角氣缸控制  

氣路系統(tǒng)  

質(zhì) 控制器 2  

計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)  

采用 PLC +工控機(jī)+觸摸屏全自動控制方式  

可選配件  

膜厚儀、氣泵、水冷循環(huán)機(jī)  

設(shè)備占地面積  

主機(jī)  

I000×1800mm2  

電控柜  

900×600mm2  

免責(zé)聲明:本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等),僅供參考??赡苡捎诟虏患皶r(shí),會造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異,請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,本公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您見諒。  





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