ABN-MLM-002 有掩膜光刻機(jī)
- 公司名稱(chēng) 艾博納微納米科技（江蘇）有限責(zé)任公司
- 品牌 ABNER/艾博納
- 型號(hào) ABN-MLM-002
- 產(chǎn)地 淮安市清江浦區(qū)清浦工業(yè)園枚皋路7號(hào)
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/8/1 8:49:10
- 訪問(wèn)次數(shù) 339
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探針臺(tái)，二維材料轉(zhuǎn)移臺(tái)，金相顯微鏡，步進(jìn)電機(jī)，步進(jìn)電機(jī)控制器，原子力顯微鏡，拉曼光譜儀
ABN-MLM-002 有掩膜光刻機(jī)是艾博納自主研發(fā)的一款高精度微納圖案轉(zhuǎn)印設(shè)備，采用高穩(wěn)定性紫外光源與優(yōu)良光學(xué)系統(tǒng)，支持接觸式和近接式多模式曝光，適用于微米及亞微米級(jí)圖案的高保真轉(zhuǎn)印。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于科研院所及中小批量半導(dǎo)體制造、MEMS 微機(jī)電系統(tǒng)、光電子器件等微納制造領(lǐng)域。
有掩膜光刻機(jī)整機(jī)配置高強(qiáng)度汞燈或i-line/LED光源，光強(qiáng)密度≥50 mW/cm2，均勻性≥90%，光強(qiáng)穩(wěn)定性±2%，確保圖案曝光穩(wěn)定一致。光學(xué)系統(tǒng)采用準(zhǔn)直透鏡聯(lián)合均勻化裝置和高分辨率曝光物鏡，具備≤2 μm接觸式、≤5 μm近接式的分辨能力，1:1 等倍投影精度滿(mǎn)足高精制程要求。
集成高倍率CCD成像系統(tǒng)與十字線疊加輔助對(duì)準(zhǔn)功能，對(duì)位精度可達(dá) ≤2 μm；搭配高精度X/Y/Z電動(dòng)平臺(tái)，重復(fù)精度優(yōu)于1 μm。控制系統(tǒng)支持軟件和觸摸屏雙模式控制，曝光參數(shù)可編程設(shè)定，具備USB、RS232、Ethernet等通信接口，提升操作便捷性與系統(tǒng)兼容性。
此外，ABN-MLM-002 支持多種可選模塊，如自動(dòng)掩膜更換系統(tǒng)、自動(dòng)對(duì)位識(shí)別系統(tǒng)、真空吸附樣品臺(tái)、伺服納米級(jí)電控平臺(tái)等，為高效精密光刻工藝提供全面保障，是科研與產(chǎn)業(yè)橋接的重要裝備之一。
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