化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>半導(dǎo)體行業(yè)專用儀器>薄膜生長(zhǎng)設(shè)備>原子層沉積設(shè)備> AT810 經(jīng)濟(jì)性原子層沉積設(shè)備
AT810 經(jīng)濟(jì)性原子層沉積設(shè)備
- 公司名稱 德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司
- 品牌 ANRIC
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時(shí)間 2025/8/14 14:34:13
- 訪問(wèn)次數(shù) 476
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韋氏納米（FIRSTNANO）是一家成立于2012年的德國(guó)公司，由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦。基于“Science is international”的理念，三位創(chuàng)始人提出了“全球協(xié)同實(shí)驗(yàn)室”的夢(mèng)想，致力于推動(dòng)全球科研合作與技術(shù)創(chuàng)新。韋氏納米專注于半導(dǎo)體技術(shù)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域，始終秉持“前沿、專業(yè)、科學(xué)”的宗旨，將技術(shù)引入?yún)f(xié)同實(shí)驗(yàn)室，助力科學(xué)家實(shí)現(xiàn)突破性研究。
自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來(lái)，韋氏納米在中國(guó)穩(wěn)步發(fā)展，相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu)，形成了覆蓋全國(guó)的科研服務(wù)網(wǎng)絡(luò)。我們的產(chǎn)品和服務(wù)涵蓋微納加工制程、材料科學(xué)的檢測(cè)與分析、生命科學(xué)成像、腦科學(xué)與行為認(rèn)知等領(lǐng)域，為全球科研工作者提供技術(shù)支持與解決方案。
韋氏納米的愿景是“從科學(xué)家到科學(xué)家，科學(xué)開(kāi)創(chuàng)美好未來(lái)”。我們堅(jiān)信，科學(xué)無(wú)國(guó)界，全球科研工作者應(yīng)攜手合作，共同推動(dòng)人類科技進(jìn)步。韋氏納米不僅是一家科學(xué)儀器供應(yīng)商，更是全球科研生態(tài)的重要參與者。我們致力于通過(guò)“全球協(xié)同實(shí)驗(yàn)室”的理念，將前沿技術(shù)與全球科研需求緊密結(jié)合，助力科學(xué)家實(shí)現(xiàn)更多研究成果。
韋氏納米匯聚了一支由高學(xué)歷、高素質(zhì)人才組成的國(guó)際化團(tuán)隊(duì)。我們的團(tuán)隊(duì)成員具備深厚的專業(yè)背景和豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。公司始終注重人才培養(yǎng)與引進(jìn)，博士及碩士學(xué)歷人才占比超過(guò)70%。正是這支充滿激情與創(chuàng)造力的團(tuán)隊(duì)，推動(dòng)韋氏納米在科研儀器領(lǐng)域不斷進(jìn)步，贏得了全球客戶的信任。
韋氏納米在中國(guó)設(shè)有完善的本地化服務(wù)體系，覆蓋售前、售中和售后全流程。我們?cè)谏虾?、深圳、武漢和香港均設(shè)有技術(shù)支持中心和樣機(jī)實(shí)驗(yàn)室，為客戶提供及時(shí)響應(yīng)的技術(shù)支持和設(shè)備體驗(yàn)。此外，我們還建立了高效的備件庫(kù)和物流體系，確保客戶能夠獲得所需的服務(wù)與支持。
“不僅提供前沿的產(chǎn)品，更注重服務(wù)”是韋氏納米的核心價(jià)值。我們深知，科研儀器的價(jià)值不僅在于其技術(shù)性能，更在于其能否真正滿足科學(xué)家的研究需求。因此，我們始終以客戶為中心，致力于為每一位科研工作者提供定制化的解決方案。
公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家，科學(xué)開(kāi)創(chuàng)美好未來(lái)。
FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域，始終秉承“前沿、專業(yè)、科學(xué)”的宗旨，將前沿技術(shù)引進(jìn)到協(xié)同實(shí)驗(yàn)室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程；材料科學(xué)的檢測(cè)、分析；生命科學(xué)成像，腦科學(xué)與行為認(rèn)知等相關(guān)領(lǐng)域。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商，FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系、以及嚴(yán)格的質(zhì)量管控系統(tǒng)，能為客戶提供前沿的技術(shù)解決方案。
公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛，其中包括消費(fèi)電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機(jī)構(gòu)。
在成長(zhǎng)的過(guò)程中，我們腳踏實(shí)地、奮勇向前。自2015年香港（中華區(qū)）公司成立以來(lái)，我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機(jī)構(gòu)。
我們真誠(chéng)邀請(qǐng)業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM，一起為夢(mèng)想揚(yáng)帆起航！
半導(dǎo)體儀器和電子產(chǎn)品耗材耗材
| 價(jià)格區(qū)間 | 50萬(wàn)-100萬(wàn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,航空航天,汽車(chē)及零部件,電氣,綜合 |
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AT810 經(jīng)濟(jì)性原子層沉積設(shè)備臺(tái)式系統(tǒng)占地面積小
采用半導(dǎo)體級(jí)金屬密封管路以及兼容高溫的快速脈沖原子層沉積（ALD）閥。
用于集成惰性氣體吹掃的超快速質(zhì)量流量控制器（MFC）。
6 英寸圓形卡盤(pán)（最大適配 7 英寸方形），可針對(duì)更小尺寸或其他形狀（高 11 毫米）定制。
3 種有機(jī)金屬前驅(qū)體和 2 種（最多 3 種 ）反反應(yīng)物。
全程加熱管路（從前驅(qū)體到反應(yīng)腔室 ）。
全半導(dǎo)體級(jí)鋁制腔室，溫度范圍最高可達(dá) 300℃
7 英寸觸摸屏可編程邏輯控制器（PLC），無(wú)需個(gè)人電腦（PC）。
特征
· 占地面積小的桌面系統(tǒng)，兼容潔凈室。
· 全鋁（半導(dǎo)體級(jí)）腔室 - 溫度高達(dá) 300°C
· 高溫半導(dǎo)體級(jí)快速脈沖 ALD 閥，帶有超快 MFC，用于集成惰性氣體吹掃。
· 8 英寸圓卡盤(pán)可定制為較小尺寸或其他形狀。
· 流線型腔室設(shè)計(jì)和小腔室容積
· 3 種有機(jī)金屬前體和 2 種（最多 3 種）反反應(yīng)物。
前體可以加熱到 150°C。
· 整個(gè)加熱管線（從前體到腔室）。
· 系統(tǒng)維護(hù)簡(jiǎn)單，市場(chǎng)上公用事業(yè)和前體使用量
· 高曝光（用于溝槽和多孔基材）和靜態(tài)處理模式
· 7 英寸觸摸屏 PLC 控制器（無(wú)需 PC）
規(guī)格
· 室溫從室溫到 300°C ± 1°C
· 前驅(qū)體溫度從室溫到 150°C ± 2°C（帶加熱夾套）
· 市場(chǎng)上占地面積最小，臺(tái)式安裝和潔凈室兼容
· 系統(tǒng)維護(hù)簡(jiǎn)單，市場(chǎng)上公用事業(yè)和前體使用量
· 流線型腔室設(shè)計(jì)和小腔室容積
· 快速循環(huán)能力和高曝光，可進(jìn)行深度滲透處理
· 從前體到腔室的所有金屬都是密封的。
· 典型工作壓力
· 全硬件和軟件聯(lián)鎖，可在多用戶環(huán)境中安全運(yùn)行
· 110 – 220 VAC，單相，50/60Hz，15 安培（220V 為 10A）
· 重量約 100 磅（45 公斤）
選件
· 定制卡盤(pán)/壓板（方形、小件壓痕、粉末）
· 定制腔室（更厚的基板）
· ATOzone – 臭氧發(fā)生器（某些薄膜需要：Pt、Ir、SiO2、MoO2、60°C 以下的高質(zhì)量 Al2O3、高質(zhì)量 HfO2）
可選 – 臭氧安全監(jiān)測(cè)器，可實(shí)時(shí)檢測(cè)環(huán)境臭氧氣體
· QCM（石英晶體微量天平）
· 手套箱集成（通常要求不將基材暴露在潮濕環(huán)境中;硫化物等。
· 外部控制 – PC/軟件鏈接（允許遠(yuǎn)程編程和運(yùn)行）
· 通風(fēng)前驅(qū)體柜
· 備用室
· IGPA（惰性氣體壓力輔助）用于低蒸氣壓前驅(qū)體
· 前驅(qū)體溫度更高（至 180°C）
· 第三反反應(yīng)物
第三對(duì)反應(yīng)物的軟件控制
安裝
有關(guān)詳細(xì)說(shuō)明，請(qǐng)參閱我們的演示和視頻說(shuō)明：“AT810 安裝和啟動(dòng) ”
N2 吹掃氣體應(yīng)為 >99.9995%，帶截止閥（調(diào)節(jié)至 10 – 30 psi，金屬密封）。
輸入線是 1/4 母頭 VCR 壓縮接頭
通過(guò) 1/4 英寸金屬線將 99.9995% 氮?dú)?（UHP） 吹掃氣體>背面的 1/4 英寸壓縮接頭連接起來(lái)
通過(guò) 90/110 英寸聚乙烯管或金屬線將 1-4 psi CDA（清潔干燥空氣）連接到另一個(gè)標(biāo)有 CDA（清潔干燥空氣）的 1/4 英寸壓縮接頭
最小 19.5cfm 濕泵（**需要 PTFE 真空流體（如 Fomblin））
NW25 （KF25） （1“） 連接和排氣管（帶 5cfm >拉）
大于 1 米應(yīng)使用 NW40 （1.5“） 排氣管
前驅(qū)體通過(guò)內(nèi)螺紋 VCR 彎頭連接（始終使用新墊圈）
彎頭：1/4“ 墊圈先（戴手套）
有關(guān)前體連接，請(qǐng)參閱“AT810 工具和軟件”。
軟件
AT810 經(jīng)濟(jì)性原子層沉積設(shè)備有關(guān)詳細(xì)說(shuō)明，請(qǐng)參閱我們的演示和視頻說(shuō)明：“AT810 安裝和啟動(dòng) ”
輸入子周期和總周期
人機(jī)界面 （HMI） PLC 系統(tǒng)，帶 7 英寸觸摸屏面板
適用于標(biāo)準(zhǔn) ALD 循環(huán)沉積的高級(jí)控制，如納米層壓板、摻雜薄膜和三元薄膜
用于高質(zhì)量、經(jīng)過(guò)測(cè)試的工藝的配方數(shù)據(jù)庫(kù)
自定義配方輸入屏幕
實(shí)時(shí)顯示工藝狀態(tài)
可單獨(dú)編程的加熱源溫度
用于三元化合物和納米層壓板的內(nèi)置脈沖序列
快速運(yùn)行，簡(jiǎn)單的問(wèn)題讓用戶開(kāi)始
采購(gòu)中心
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