輝光放電質譜

ELEMENT GD集中了輝光放電和高分辨質譜的優(yōu)勢，在以下方面有杰出表現(xiàn)：

·樣品測試通量高：ELEMENT GD離子源和樣品夾的設計使可縮短換樣和分析時間，顯著提高生產率；

·檢測器線性范圍寬：檢測器線性范圍達12個數(shù)量級，可一次掃描同時檢測基體和痕量元素組成；

·具有固定寬度的低、中、高分辨率狹縫，采用高分辨率可直接分析有質譜干擾的同位素。

GD-MS 技術可用于分析導體和非導體材料，其方法的穩(wěn)健性確保了不同樣品分析時具備相同程度的靈敏度和數(shù)據質量。借 助于專門的制樣和分析流程，可輕松完成低熔點金屬（例如鎵）的測試。上述優(yōu)勢使得 GD-MS 成為可靠的金屬標分析標準。 

Element GD Plus GD-MS 廣泛服務于高純材料制造商及其工業(yè)客戶，諸如：

航空航天 - 鎳超合金、涂層和擴散層深度剖面

微電子 - 銅、氧化鋁粉末、濺射靶材 

可再生能源 - 硅塊、晶圓、太陽能電池

醫(yī)療 / 制藥 / 食品 - 不銹鋼、合金 

核工業(yè) - 鈾、核燃料

輝光放電質譜

杰出的分析速度、靈敏度和準確度

Element GD Plus GD-MS 作為當今前沿的分析技術，為固體樣品分析 提供了高通量測試所需的分析速度、靈敏度以及準確度。 專門設計的樣品夾，旨在確保操作簡單、換樣快速，適用于常規(guī)操作和 高通量測試。

高通量常規(guī)分析 Element GD Plus GD-MS 

離子源及樣品夾非設計十分便于 更換樣品，利于常規(guī)操作和高通量測試。 

制樣簡單 

巧妙而簡單的輝光放電離子源設計縮短了換樣時間。 

樣品本身置于真空室之中，消除樣品和 GD 放電池之間 泄露風險。

樣品可以快速便捷地從離子源移除、取下、換樣、重新裝回離子源，之后可進行下一次測量。離子源室的開啟和關閉可全自動完成。