ICP 8100型 感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機
- 公司名稱 深圳微儀真空技術(shù)有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/10/31 15:44:13
- 訪問次數(shù) 33
聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息，謝謝!
深圳微儀真空技術(shù)有限公司成立于2024年09月24日，注冊地位于深圳市寶安區(qū)松崗街道東方社區(qū)聯(lián)投東方世家花園1棟二單元2401，法定代表人為曹寧。經(jīng)營范圍包括半導(dǎo)體器件專用設(shè)備制造；真空鍍膜加工；泵及真空設(shè)備制造；專用儀器制造；集成電路設(shè)計；自然科學(xué)研究和試驗發(fā)展；貨物進出口；技術(shù)進出口；技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣；電子專用設(shè)備銷售；人工智能應(yīng)用軟件開發(fā)；租賃服務(wù)（不含許可類租賃服務(wù)）；實驗分析儀器制造；教學(xué)專用儀器制造；機械零件、零部件銷售；個人商務(wù)服務(wù)。（除依法須經(jīng)批準的項目外，憑營業(yè)執(zhí)照依法自主開展經(jīng)營活動）
設(shè)備簡介：
本設(shè)備專用于氟基或更弱腐蝕性氣體刻蝕。
設(shè)備配有自動Load-Lock系統(tǒng)，由樣片室中的機械手，完成送樣/取樣過程。
支持雙片機械手，適合于在人工值守情況下的連續(xù)生產(chǎn)。
設(shè)備刻蝕材料廣泛，包括：聚合物；Si、SiO2、Si3N4；部分金屬（淺刻蝕）等；設(shè)備基于O2、氟基腐蝕氣體、Ar等。
主要技術(shù)指標：
真空刻蝕室尺寸： Φ376mm×H300mm
Load-lock腔體尺寸： L600mm*W450mm*H166mm，鋁質(zhì)臥式結(jié)構(gòu)，上蓋自動開閉。
樣片大小及數(shù)量： φ8英寸樣片1片，load-lock室為φ8英寸樣片2片
刻蝕室極限真空度： ≤2×10-4Pa
Load-lock室極限真空度： ≤6.7*10-1Pa
系統(tǒng)漏率： ≤5×10-7Pa·L/s
靜態(tài)升壓： 系統(tǒng)停泵關(guān)機12小時后，真空度≤5Pa
刻蝕室抽氣速率 系統(tǒng)充干燥N2解除真空，短時暴露大氣后抽氣至5×10-3Pa≤15min
系統(tǒng)充干燥N2解除真空，短時暴露大氣后抽氣至9×10-4Pa≤40min
Load-lock室抽氣速率： 系統(tǒng)充干燥N2解除真空，短時暴露大氣后抽氣至10Pa≤7min
刻蝕不均勻性： ≤±5％
采購中心
化工儀器網(wǎng)