光學(xué)輪廓儀在微電子與MEMS制造中的角色
| 參考價(jià) | ¥ 1600000 |
| 訂貨量 | ≥1件 |
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱 北京儀光科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 西班牙
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2026/3/6 10:02:34
- 訪問次數(shù) 31
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西班牙Sensofar共聚焦白光干涉儀、澤攸臺(tái)式電鏡&臺(tái)階儀&原位分析、徠卡等光學(xué)顯微鏡、RMC超薄切片機(jī)、Linkam冷熱臺(tái)
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 石油,能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,綜合 |
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光學(xué)輪廓儀在微電子與MEMS制造中的角色
微電子和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)制造的特征尺寸不斷縮小,對(duì)工藝控制和檢測(cè)技術(shù)提出了挑戰(zhàn)。
Sensofar S neox非接觸式粗糙度輪廓儀以其高分辨率和非破壞性測(cè)量的特點(diǎn),在該領(lǐng)域發(fā)揮著作用。
在晶圓制備階段,硅片的全局平整度(納米形貌)和局部粗糙度是影響后續(xù)光刻和薄膜沉積質(zhì)量的關(guān)鍵。該儀器可以進(jìn)行大面積、快速的面形測(cè)量,監(jiān)控拋光工藝的穩(wěn)定性。在薄膜工藝中,可用于測(cè)量介質(zhì)層、金屬層的膜厚均勻性(通過臺(tái)階測(cè)量)和表面粗糙度,評(píng)估沉積工藝的質(zhì)量。
對(duì)于MEMS器件,如加速度計(jì)、陀螺儀中的可動(dòng)微結(jié)構(gòu)(懸臂梁、質(zhì)量塊等),其尺寸、側(cè)壁陡直度和表面粗糙度直接影響器件的性能和可靠性。儀器的共聚焦模式有助于獲取微結(jié)構(gòu)的三維形貌,檢查刻蝕或沉積工藝可能引入的缺陷。雖然光學(xué)方法在測(cè)量極gao 深寬比結(jié)構(gòu)時(shí)存在局限,但對(duì)于許多MEMS結(jié)構(gòu)仍能提供有價(jià)值的尺寸和形貌信息。
在先jin 封裝領(lǐng)域,如晶圓級(jí)封裝(WLP)中,該儀器可以測(cè)量凸點(diǎn)(Bump)的高度、共面性,確?;ミB的可靠性。對(duì)于硅通孔(TSV)技術(shù),可以評(píng)估通孔開口的形貌和深度。其非接觸特性wan 全避免了對(duì)脆弱微結(jié)構(gòu)的潛在損傷。
光學(xué)輪廓儀在微電子與MEMS制造中的角色
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