NS-3500 Solar 是一種可靠的半導(dǎo)體晶圓檢測系統(tǒng)。通過快速光學(xué)掃描模塊和信號處理算法實現(xiàn)實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結(jié)構(gòu)，如半導(dǎo)體晶片，F(xiàn)PD產(chǎn)品，MEMS設(shè)備，玻璃基板，材料表面等方面擁有各種解決方案。

NS3500 Solar 半導(dǎo)體晶圓質(zhì)量檢測系統(tǒng)

NS-3500 Solar 是一種可靠的半導(dǎo)體晶圓檢測系統(tǒng)。通過快速光學(xué)掃描模塊和信號處理算法實現(xiàn)實時共焦顯微圖像。在測量和檢測微觀三維結(jié)構(gòu)，可以為半導(dǎo)體晶片，F(xiàn)PD產(chǎn)品，MEMS設(shè)備，玻璃基板，材料表面等提供各種解決方案。

Features & Benefits（性能及優(yōu)勢）：

• 高分辨無損傷光學(xué)3D測量                               自動傾斜補償

• 實時共焦成像                                                 簡單的數(shù)據(jù)分析模式

• 多種光學(xué)變焦                                                 雙Z掃描

  大范圍拼接                                                    半透明基材的特征檢測

• 實時CCD明場和共聚焦成像                            無樣品準(zhǔn)備

• 自動聚焦

Application field（應(yīng)用領(lǐng)域）：

NS-3500是測量低維材料的有前途的解決方案。

可測量微米和亞微米結(jié)構(gòu)的高度，寬度，角度，面積和體積，例如

-半導(dǎo)體:IC圖形，凹凸高度，線圈高度，缺陷檢測，CMP工藝

- FPD產(chǎn)品:觸摸屏屏幕檢測，ITO圖案，LCD柱間距高度

- MEMS器件:結(jié)構(gòu)三維輪廓，表面粗糙度，MEMS圖形

-玻璃表面:薄膜太陽能電池，太陽能電池紋理，激光圖案

-材料研究:模具表面檢測，粗糙度，裂紋分析

Specifications(規(guī)格）:

Model	Microscope  NS-3500 Solar					備注
物鏡倍率		10x	20x	50x	100x
觀察/  測量范圍	水平 (H): μm	1400	700	280	140
	垂直 (V): μm	1050	525	210	105
工作范圍: mm		16.5	3.1	0.54	0.3
數(shù)值孔徑(N.A.)		0.30	0.46	0.80	0.95
光學(xué)變焦		x1 to x6
總放大倍率		178x to 26700x
觀察/測量光學(xué)系統(tǒng)		Pinhole共聚焦光學(xué)系統(tǒng)
高度測量	測量掃描范圍	400 um				注 1
	顯示分辨率	0.001 μm
	重復(fù)率 σ	0.010 μm				注 2
幀記憶	像素	1024x1024, 1024x768, 1024x384,   1024x192, 1024x96
	單色圖像	12 bit
	彩色圖像	8-bit for RGB each
	高度測量	16 bit
幀速率	表面掃描	20 Hz to 160 Hz
	線掃描	~8 kHz
激光共焦測量光源	波長	405nm
	輸出	~2mW
	激光等級	Class 3b
激光接收元件		PMT (光電倍增管)
光學(xué)觀察光源	燈	10W LED
光學(xué)觀察照相機	成像元件	1/2" 彩色圖像 CCD 傳感器
	記錄分辨率	640x480
	自動調(diào)整	增益, 快門速度, White balance
數(shù)據(jù)處理單元		PC
電源	電源電壓	100 to 240 VAC, 50/60 Hz
	電流消耗	500 VA max.
重量	顯微鏡	Approx. ~50 kg (Measuring head unit : ~12 kg)
	控制器	~8 kg
隔振系統(tǒng)		氣浮光學(xué)平臺隔振系統(tǒng)				Option

           

注1:精細掃描由壓電執(zhí)行器（PZT）執(zhí)行。

注2 :以100×/ 0.95物鏡對標(biāo)準(zhǔn)樣品（步長1μm）進行100次測量。