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中級會(huì)員 | 第10年

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超百家用戶單位認(rèn)可!小型無掩膜光刻直寫系統(tǒng)落戶香港中文大學(xué),助力研究

時(shí)間:2025/11/20閱讀:64
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近日,香港中文大學(xué)電子工程學(xué)院引入由Quantum Design中國公司引進(jìn)的新版小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3。該設(shè)備由工程學(xué)院副院長,材料研究中心主任許建斌教授課題組主導(dǎo)應(yīng)用,重點(diǎn)為納米電子學(xué)及光子學(xué)、二維材料、能源科技等前沿領(lǐng)域的研究提供關(guān)鍵微加工技術(shù)支持,助力香港中文大學(xué)在上述領(lǐng)域突破技術(shù)瓶頸、產(chǎn)出高水平科研成果。


超百家用戶單位認(rèn)可!小型無掩膜光刻直寫系統(tǒng)落戶香港中文大學(xué),助力研究


香港中文大學(xué)完成安裝的小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3


作為當(dāng)前微加工領(lǐng)域的核心設(shè)備之一,小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3,無需制作掩膜版,可直接將設(shè)計(jì)好的版圖文件,如電路結(jié)構(gòu),微流控通道,光學(xué)微柵等,在光刻膠襯底上直接曝光。這一特性不僅省去了傳統(tǒng)光刻流程中掩膜版設(shè)計(jì)、制作與適配的復(fù)雜環(huán)節(jié),更憑借高效率、高精度、自動(dòng)化等技術(shù)特點(diǎn),大幅縮短微加工周期、提升工藝穩(wěn)定性,廣泛適用于納米電子器件制備、微納光子結(jié)構(gòu)加工、生物微流控芯片研發(fā)等各類微加工相關(guān)科研場景。


值得關(guān)注的是,截至目前,MicroWriter ML3在國內(nèi)已有上百家用戶單位,經(jīng)過多年實(shí)際應(yīng)用驗(yàn)證與技術(shù)迭代,其性能穩(wěn)定性與工藝適配性獲得學(xué)界廣泛認(rèn)可,依托該設(shè)備的諸多高水平科研成果已在眾多期刊發(fā)表,充分證明了其在推動(dòng)前沿微納研究中的核心價(jià)值。


此次落戶于香港中文大學(xué)的MicroWriter ML3為最新升級版本,在技術(shù)參數(shù)上實(shí)現(xiàn)多維度優(yōu)化,進(jìn)一步拓展了科研應(yīng)用邊界:


  • 分辨率覆蓋全面:提供 0.4 μm、0.6 μm、1 μm、2 μm、5 μm 五種加工分辨率,可滿足從精細(xì)納米結(jié)構(gòu)到常規(guī)微尺度圖形的多樣化加工需求;

  • 光源適配靈活:集成 405 nm 與 365 nm 雙光源,支持自動(dòng)切換模式,可兼容各類正性、負(fù)性光刻膠,無需更換光源模塊即可實(shí)現(xiàn)不同光刻膠的工藝優(yōu)化;

  • 套刻精度超卓:最高套刻精度優(yōu)于 0.5 μm,確保多層微結(jié)構(gòu)疊加加工時(shí)的對準(zhǔn)精度,為復(fù)雜器件(如多層納米電路、異質(zhì)結(jié)微器件)的制備提供關(guān)鍵保障;

  • 工藝能力拓展:具備背面對準(zhǔn)功能,可實(shí)現(xiàn)透明襯底、柔性襯底等特殊基底上的精準(zhǔn)光刻,豐富了微加工工藝的應(yīng)用場景;

  • 加工效率超高:最大直寫速度超過 180 mm2/min,在保證精度的同時(shí)顯著提升加工效率,滿足批量樣品制備與快速工藝驗(yàn)證需求。



超百家用戶單位認(rèn)可!小型無掩膜光刻直寫系統(tǒng)落戶香港中文大學(xué),助力研究

小型臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng)- MicroWriter ML3


Quantum Design中國始終以國內(nèi)科研需求為核心,充分發(fā)揮 “前沿技術(shù)橋梁" 作用,持續(xù)將國外具有優(yōu)質(zhì)前沿技術(shù)特色的設(shè)備引入國內(nèi),為科研工作者提供技術(shù)支持與服務(wù)保障。此次與香港中文大學(xué)的合作,不僅進(jìn)一步擴(kuò)大了公司設(shè)備技術(shù)在粵港澳大灣區(qū)科研領(lǐng)域的認(rèn)可度,更標(biāo)志著雙方推動(dòng)國內(nèi)前沿微納電子學(xué)領(lǐng)域研究的重要實(shí)踐。


未來,隨著 MicroWriter ML3 在香港中文大學(xué)的常態(tài)化應(yīng)用,其高效、精準(zhǔn)的微加工能力將為該校相關(guān)領(lǐng)域研究提供更堅(jiān)實(shí)的技術(shù)支撐,助力科研團(tuán)隊(duì)在納米電子器件性能優(yōu)化、二維材料器件集成、新型能源存儲(chǔ)微結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)等方向取得更多突破性進(jìn)展,推動(dòng)我國在前沿納米科技領(lǐng)域的研究水平進(jìn)一步提升。



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