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分享!化學機械拋光機的主要特色和技術指標

閱讀:1669        發(fā)布時間:2022-11-26
  化學機械拋光機是一種用于電子與通信技術、航空、航天科學技術領域的工藝試驗儀器。它可提供多種拋光工藝來優(yōu)化產(chǎn)品開發(fā)。包括廣泛的速度范圍、閉環(huán)加載力控制、多功能晶圓夾具和自動漿料輸送系統(tǒng)?;瘜W機械拋光機在拋光過程中可以監(jiān)測多個在線信號。除了拋光晶片和基板外,該拋光機還配有在線三維形貌儀。這種組合提供了有關表面、摩擦和磨損如何變化的信息。
 
  化學機械拋光機一般采用空氣干燥,不要用機器烘干。吸油性:其切削力弱于羊毛切削力,不會留下旋紋,能有效去除中度的漆面缺陷。拋光盤底面具有自動粘貼功能,可以快速轉(zhuǎn)換拋光輪。適用于車內(nèi)普通漆、透明漆的磨光、拋光,一般用于毛料拋盤后拋光、打蠟。使用方法:溫水洗凈,擠去水份,置于潔凈處晾干。請勿使用肥皂或清潔劑清洗,不可干洗或機洗,不要用梳毛刷或螺絲刀清洗海綿輪。兔毛拋盤:兔毛拋盤位于毛線拋盤與海綿拋盤之間,底部有自動粘貼,可用來清潔車身。
 

 

  產(chǎn)品主要特色:
  1、CMP拋光頭:采用氣囊加載模式,3區(qū)壓力分區(qū)控制,可得到良好的工業(yè)級拋光效果;
  2、自動上下片,自動拋光,干進干出;
  3、拋光墊修整器:擺臂式設計,拋光墊分10區(qū)修整控制,可調(diào)整修整器下壓力及每個區(qū)域的修整時間,可保證拋光墊高水平修整;
  4、拋光墊修整器:具有在線修整與離線修整兩種模式;
  5、工藝數(shù)據(jù)可實時監(jiān)測;
  6、可存儲多個Recipe;
  7、帶全自動手臂及自動雙面清洗設備模塊。
 
  化學機械拋光機的技術指標:
  1、采用去離子水粘貼硅片或采用真空吸附硅片進行拋光,摒棄傳統(tǒng)的涂蠟粘貼硅片的方式,有利于拋光后硅片的清洗;
  2、具備背壓功能,能夠顯著提升拋光的均勻性;
  3、具備拋光終點檢測系統(tǒng),防止過拋。

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