電子級EW-I/II/III/IV超純水系統(tǒng)概述：

當今半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需要大量的純水、超純水清洗成品、半成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級超純水為四個等級，分別為EW-I級≥18MΩ·cm，全硅≤2ug/L、EW-II級≥15MΩ·cm，全硅≤10ug/L，EW-III級≥12MΩ·cm，全硅≤50ug/L、EW級≥0.5MΩ·cm，全硅≤100ug/L 以區(qū)分不同的電子級超純水水質。其中對于超純水關鍵的指標如：電導率（電阻率）、總硅、PH值、顆粒度、微生物等均由不同的要求。因此線路板、電路板使用純水、超純水因為本身工藝流程的不同對超純水制造的工藝也不同。

1、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線 器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)

2、預處理系統(tǒng)→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線 器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)

3、預處理系統(tǒng)→一級反滲透→加藥機(PH調節(jié))→中間水箱→第二級反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線 器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)

4、預處理系統(tǒng)→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線 器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)

5、預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線 器→精密過濾器→用水點 (≥15MΩ.CM)

電子半導體超純水系統(tǒng)通常直接接入國家自來水標準的水為源水，通常有多介質過濾器，活性炭過濾器，精密過濾器等構成預處理系統(tǒng)，另有RO反滲透主機系統(tǒng)，離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構成主要設備系統(tǒng)。系統(tǒng)水箱設有液位控制系統(tǒng)、水泵設有高低壓壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用模塊化組合PLC，及通信遠程輸送至中控室上位機，實現(xiàn)現(xiàn)場就地和集中控制兩種操作方式，降低了人工的操作復雜度和維護工作量等，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，或者公司可按照客戶對于水質的要求進行特殊定制，既能 用水水質達標，同時降低了所需成本，使該設備與其他同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

電子級EW-I/II/III/IV超純水系統(tǒng)用水標準：

符合美國ASTM純水水質標準、電子工業(yè)部高純水水質試行標準、美國半導體工業(yè)用純水指標、日本集成電路水質標準、國內外大規(guī)模集成電路水質標準

電子級超純水系統(tǒng)選型表：

注：1、設備尺寸僅供參考，可根據(jù)用戶需求進行量身定做；

1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

2、電子管生產、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液

3、顯像管和陰極射線管生產、配料用純水

4、黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

5、液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

6、晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

7、集成電路生產中高純水清洗硅片

8、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

9、LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

10、高品質顯像管、螢光粉生產

11、半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

12、超純材料和超純化學試劑、超純化工材料