雙光子灰度光刻技術(shù)（2GL）能夠以最高的精度對(duì)自由曲面微光學(xué)、微透鏡陣列或衍射微光學(xué)進(jìn)行微納加工。這些打印在晶圓上的2.5D微納結(jié)構(gòu)可作為母版，通過納米壓印光刻技術(shù)（NIL）應(yīng)用于工業(yè)復(fù)制中。
Quantum X litho系統(tǒng)及其獨(dú)_有的突破性專_利2GL®技術(shù)將灰度光刻和雙光子聚合（2PP）的優(yōu)勢(shì)相結(jié)合，以實(shí)現(xiàn)幾乎任意2.5D拓?fù)鋱D設(shè)計(jì)并具有光學(xué)質(zhì)量表面和亞微米形狀精度特點(diǎn)。此外，Quantum X litho系統(tǒng)可以處理不同類型的基底，如玻璃載玻片或最大6英寸的硅晶片。該微納加工系統(tǒng)專為快速成型，小批量生產(chǎn)和在復(fù)制工藝中高效制造母版而設(shè)計(jì)。
NIL的基本流程包括三個(gè)步驟：首先是制作母版印章，用來在復(fù)制過程中制作相同復(fù)制品結(jié)構(gòu)。接下來，從母版上模制一個(gè)軟模，顯示母版的精確負(fù)面特征。最終實(shí)現(xiàn)的納米壓印模板可以復(fù)制和原始結(jié)構(gòu)一模一樣的副本。
特殊技術(shù)例如步進(jìn)重復(fù)納米壓印工藝(StepandrepeatNIL）可以通過復(fù)制一個(gè)單模具母版到一個(gè)完_全填充8英寸母版上來幫助擴(kuò)展該過程。該8英寸的母版可以在后續(xù)過程中實(shí)現(xiàn)高效大批量的復(fù)制過程。
Quantum X litho系統(tǒng)可完_美地匹配納米壓印光刻技術(shù)工藝鏈，并以最高的精度制作具備2.5D拓?fù)鋱D母版，如微透鏡陣列以及衍射和折射微光學(xué)。
【公司定位】納糯三維Nanoscribe作為雙光子灰度光刻微納加工制造的先驅(qū)和創(chuàng)新者，從科研實(shí)驗(yàn)室到工業(yè)生產(chǎn)現(xiàn)場，Nanoscribe提供全方_位高精度增材制造解決方案，顯著簡化制造流程、提升效率與精度。
【公司資質(zhì)】Nanoscribe的2GL®技術(shù)受中國國家專_利保護(hù)（專_利號(hào)：CN110573291B）A2PL技術(shù)受中國國家專_利保護(hù)（CN109997081B）
【主營業(yè)務(wù)】微納3D打印、三維微納加工、無掩膜激光直寫光刻、灰度光刻先進(jìn)封裝、光互聯(lián)納米制造
【應(yīng)用領(lǐng)域】微光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程、光子學(xué)技術(shù)
【產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)】Nanoscribe公司擁有世界領(lǐng)_先的雙光子無掩模光刻3D打印技術(shù)，全新QuantumX系列具有專_利雙光子灰度光刻(2GL®)，可實(shí)現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，A2PL®技術(shù)支持自動(dòng)檢測(cè)芯片邊緣、光纖核心、晶圓及預(yù)結(jié)構(gòu)化基底上的定位標(biāo)記，并以納米級(jí)對(duì)準(zhǔn)精度在指定位置直接打印自由曲面光學(xué)元件，確保打印結(jié)構(gòu)與光學(xué)軸嚴(yán)格對(duì)齊。
【產(chǎn)品評(píng)價(jià)】Quantum X litho系統(tǒng)代表了新一代對(duì)準(zhǔn)3D打印技術(shù)的發(fā)展方向，可實(shí)現(xiàn)光纖、芯片及晶圓上的高分辨率三維結(jié)構(gòu)制造，并具備自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)能力，從而支持可靠、低損耗的光子耦合，以及在傳感與成像等應(yīng)用領(lǐng)域的多樣化需求.
【品牌客戶】哈佛大學(xué)，加州理工學(xué)院，牛津大學(xué)，斯圖加特大學(xué)，麻省理工學(xué)院等
【技術(shù)領(lǐng)域】3D微納加工、雙光子加工
【客戶反饋】納糯三維Nanoscribe的技術(shù)在各項(xiàng)關(guān)鍵性突破研究中被提到，出現(xiàn)在2,100多份經(jīng)同行評(píng)審的期刊出版物中
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