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溴化鉀窗片晶片使用多次后被污染后處理方法-拋光
閱讀：9517 發(fā)布時(shí)間：2020-5-4我們這里所說(shuō)的溴化鉀是指具有較低紅外吸收系數(shù)的單晶。在ＫＢｒ原料中，適量添加ＫＢｒ３，可利用ＫＢｒ３在熱分解過(guò)程中產(chǎn)生的游離溴去除ＫＢｒ原料中的含氧基團(tuán)，純化原料。用提拉法在大氣環(huán)境中也能生長(zhǎng)出低吸收系數(shù)的大尺寸優(yōu)質(zhì)ＫＢｒ單晶。采用提拉法生長(zhǎng)KBr單晶 ,設(shè)計(jì)合理的溫場(chǎng) ,探索*的生長(zhǎng)工藝條件 ,可以生長(zhǎng)出了具有高透過(guò)、低吸收和光學(xué)均勻性高的Φ1 2 0× 1 2 0mm大尺寸的單晶 ,同時(shí)還應(yīng)該知道影響其光學(xué)性能的各種因素 ,以及提高透過(guò)、消除吸收峰的各種方法。其紅外吸收系數(shù)在１×１０ˉ?ｃｍˉ¹數(shù)量級(jí)。ZUI高級(jí)ＫＢｒ單晶透過(guò)波段寬(03～34ｕｍ),本征吸收系數(shù)β106μｍ≈20×10-7/ｃｍˉ¹比用普通方法生長(zhǎng)的ＫＢｒ單晶的吸收系數(shù)降低２個(gè)數(shù)量級(jí)。這些都必須通過(guò)高壓釜經(jīng)過(guò)連續(xù)保溫才能生長(zhǎng)出合格的溴化鉀單晶。
溴化鉀是ZUI常用的窗片材料。溴化鉀晶片硬度小，易加工，價(jià)格便宜。隨著溴化鉀晶片使用次數(shù)的增多，晶片表面劃痕越來(lái)越多。溴化鉀晶片表面越容易被有機(jī)物污染。如果測(cè)試的有機(jī)液體含有少量的水，水會(huì)溶解晶片表面的溴化鉀，使晶片表面下凹，導(dǎo)致以后測(cè)試時(shí)液膜中出現(xiàn)氣泡或液膜厚度不易掌握。當(dāng)出現(xiàn)以上情況時(shí)，應(yīng)將溴化鉀晶片拋光。
現(xiàn)有的拋光方法有用拋光機(jī)拋光，或用拋光附件拋光。但無(wú)論哪種方法都無(wú)法有效拋光晶片表面，拋光精度差，導(dǎo)致紅外波段的透過(guò)率較低，且對(duì)溴化鉀晶片表面損傷較大。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是現(xiàn)有的溴化鉀晶片拋光方法無(wú)法實(shí)現(xiàn)有效拋光，影響紅外波段的透過(guò)率，且會(huì)損傷晶片表面，為此提供一種溴化鉀晶片的拋光方法。
本發(fā)明的技術(shù)方案是：溴化鉀晶片的拋光方法，它包括以下步驟：（1）、將溴化鉀晶片置于密閉錐形容器內(nèi)，將密閉錐形容器抽真空；（2）、將酒精加熱至50-60℃后放入密閉容器內(nèi)，對(duì)密閉容器內(nèi)充入干燥氮?dú)?，使其充滿密閉容器；（3）、將密閉錐形容器放入離心機(jī)內(nèi)進(jìn)行離心10-20min，離心機(jī)轉(zhuǎn)速為200-250r/min；（4）、打開密閉錐形容器，用滴管向密閉錐形容器內(nèi)的溴化鉀晶片表面滴加乙MI，再次封閉密閉錐形容器并放入離心機(jī)內(nèi)進(jìn)行離心6-10min，離心機(jī)轉(zhuǎn)速為300-350r/min；（5）、取出密閉錐形容器內(nèi)的溴化鉀晶片，用干凈絨布擦干溴化鉀晶片表面。
本方法的有益效果是將溴化鉀晶片置于真空環(huán)境中，利用加熱后的酒精的揮發(fā)性在氮?dú)獾膲浩认赂街阡寤浘砻?，在離心機(jī)的高速旋轉(zhuǎn)下霧化的酒精均勻附著在溴化鉀晶片表面，逐漸溶解氣表面的有機(jī)物，再通入乙MI，在離心機(jī)的高速旋轉(zhuǎn)下進(jìn)行深程度的清潔，使其表面恢復(fù)光潔，后取出擦干的溴化鉀晶片即去除了表面的有機(jī)物和劃痕，又ZUI大程度的降低了被酒精和乙MI溶解的量，延長(zhǎng)溴化鉀的使用壽命。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本方法做進(jìn)一步說(shuō)明。
實(shí)施例1：溴化鉀晶片的拋光方法，它包括以下步驟：（1）、將溴化鉀晶片置于密閉錐形容器內(nèi)，將密閉錐形容器抽真空；（2）、將酒精加熱至50℃后放入密閉容器內(nèi)，對(duì)密閉容器內(nèi)充入干燥氮?dú)?，使其充滿密閉容器；（3）、將密閉錐形容器放入離心機(jī)內(nèi)進(jìn)行離心10min，離心機(jī)轉(zhuǎn)速為200r/min；（4）、打開密閉錐形容器，用滴管向密閉錐形容器內(nèi)的溴化鉀晶片表面滴加乙MI，再次封閉密閉錐形容器并放入離心機(jī)內(nèi)進(jìn)行離心6min，離心機(jī)轉(zhuǎn)速為300r/min；（5）、取出密閉錐形容器內(nèi)的溴化鉀晶片，用干凈絨布擦干溴化鉀晶片表面。
實(shí)施例2：溴化鉀晶片的拋光方法，它包括以下步驟：（1）、將溴化鉀晶片置于密閉錐形容器內(nèi)，將密閉錐形容器抽真空；（2）、將JUE對(duì)酒精加熱至55℃后放入密閉容器內(nèi)，對(duì)密閉容器內(nèi)充入干燥氮?dú)?，使其充滿密閉容器；（3）、將密閉錐形容器放入離心機(jī)內(nèi)進(jìn)行離心15min，離心機(jī)轉(zhuǎn)速為225r/min；（4）、打開密閉錐形容器，用滴管向密閉錐形容器內(nèi)的溴化鉀晶片表面滴加乙MI，再次封閉密閉錐形容器并放入離心機(jī)內(nèi)進(jìn)行離心8min，離心機(jī)轉(zhuǎn)速為325r/min；（5）、取出密閉錐形容器內(nèi)的溴化鉀晶片，用干凈絨布擦干溴化鉀晶片表面。
實(shí)施例3：溴化鉀晶片的拋光方法，它包括以下步驟：（1）、將溴化鉀晶片置于密閉錐形容器內(nèi)，將密閉錐形容器抽真空；（2）、將酒精加熱至60℃后放入密閉容器內(nèi)，對(duì)密閉容器內(nèi)充入干燥氮?dú)?，使其充滿密閉容器；（3）、將密閉錐形容器放入離心機(jī)內(nèi)進(jìn)行離心20min，離心機(jī)轉(zhuǎn)速為250r/min；（4）、打開密閉錐形容器，用滴管向密閉錐形容器內(nèi)的溴化鉀晶片表面滴加乙MI，再次封閉密閉錐形容器并放入離心機(jī)內(nèi)進(jìn)行離心10min，離心機(jī)轉(zhuǎn)速為350r/min；（5）、取出密閉錐形容器內(nèi)的溴化鉀晶片，用干凈絨布擦干溴化鉀晶片表面。
本方法的構(gòu)思是將溴化鉀晶片置于真空中隔絕外部環(huán)境的干擾，將酒精也就是*和鎂反應(yīng)得到的100%乙醇加熱至50-60℃，加速其分子運(yùn)動(dòng)，將酒精置于密閉錐形容器內(nèi)，利用其揮發(fā)性逐漸揮發(fā)成氣體，由于其不含水分，所以不會(huì)對(duì)溴化鉀晶片造成大的損傷。通入氮?dú)馐菫榱藢]發(fā)后的酒精氣體約束在溴化鉀晶片表面，再將密閉錐形容器放入離心機(jī)中高速旋轉(zhuǎn)，利用密閉錐形容器的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)使得氮?dú)庠谄鋬?nèi)發(fā)生回旋，利用離心力使得酒精氣體在溴化鉀晶片表面旋轉(zhuǎn)摩擦，溶解剝離其表面的有機(jī)液體，接著向溴化鉀晶片滴加乙MI，高速旋轉(zhuǎn)離心機(jī)，進(jìn)一步增強(qiáng)去污效果，經(jīng)過(guò)這幾步處理后的溴化鉀晶片即去除了表面殘留的有機(jī)液體，修復(fù)表面的劃痕，恢復(fù)其透光率，又控制了酒精和乙MI對(duì)其表面的腐蝕程度，延長(zhǎng)了溴化鉀晶片的單片使用壽命。