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當前位置：頤譜（上海）儀器有限公司>>科學儀器系列>> 半導體氣體中的痕量雜質(zhì)分析系統(tǒng)
可測量鍺烷（GeH）、磷化氫（PH）、砷烷（AsH）、二氯硅烷（DCS） 、三氯硅烷（TCS）等半導體氣體中的雜質(zhì)成分。
通過高性能氣相色譜儀可實現(xiàn)高精度自動檢測（操作簡便）。
可檢測氫氣（H2）、氧氣（O2）、氮氣（N2）、甲烷（CH4）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、C2組分、C3組分等雜質(zhì)。
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可檢測氫氣（H2）、氧氣（O2）、氮氣（N2）、甲烷（CH4）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、C2組分、C3組分等雜質(zhì)。
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可檢測氫氣（H2）、氧氣（O2）、氮氣（N2）、甲烷（CH4）、一氧化碳（CO）、二氧化碳（CO2）、C2組分、C3組分等雜質(zhì)。
