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當(dāng)前位置：山金工業(yè)（深圳）有限公司>>otsuka大塚電子>> 全新otsuka大塚電子 FE-5000 多功能光譜橢偏儀
更新時間：2026-02-24 15:03:20瀏覽次數(shù)：218次
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otsuka大塚電子 FE-300F 薄膜厚度監(jiān)測儀
| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,建材/家具,電子/電池,電氣,綜合 |
|---|
otsuka大塚電子 FE-5000 多功能光譜橢偏儀
otsuka大塚電子 FE-5000 多功能光譜橢偏儀
除了能夠進行高精度薄膜分析的光譜橢偏儀之外，該系統(tǒng)還配備了自動可變測量角度機構(gòu)，使其適用于所有類型的薄膜。除了傳統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)分析器方法之外，該系統(tǒng)還配備了自動延遲板安裝/拆卸機構(gòu)，從而提高了測量精度。
產(chǎn)品信息
特征
能夠測量紫外-可見光波長范圍（300至800納米）內(nèi)的橢偏參數(shù)
能夠分析納米級多層薄膜的厚度。
利用具有超過 400 個通道的多通道光譜儀快速測量橢偏光譜
可變角度反射測量能夠?qū)Ρ∧みM行詳細(xì)分析。
新增光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫和配方注冊功能，提高了操作性。
測量項目
橢偏參數(shù)（tanψ，cosΔ）測量
光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k：消光系數(shù)）分析
薄膜厚度分析
測量目標(biāo)
半導(dǎo)體晶片柵極
氧化層薄膜、氮化物薄膜（SiO?
、Si?O? 、 SiN、SiON、SiN?、Al?O?、SiN?O?）、多晶硅、ZnSe 、 BPSG、TiN光刻膠 的光學(xué)常數(shù)（波長色散）
化合物半導(dǎo)體
Al x Ga (1-x)作為多層薄膜，非晶硅
FPD
對準(zhǔn)膜
各種新型材料，
例如類金剛石碳（DLC）、超導(dǎo)薄膜、磁性薄膜
光學(xué)薄膜
TiO? 、SiO? 、抗反射涂層
光刻領(lǐng)域：
對每個波長進行 n 和 k 值評估，例如 g 線 (436 nm)、h 線 (405 nm) 和 i 線 (365 nm) 。
原則
含有s波和p波的線偏振光入射到樣品上，并測量反射光的橢圓偏振光。s波和p波的相位和振幅獨立變化，因此可以獲得p波與s波反射率之比（tanψ）和相位差（Δ），這兩個參數(shù)是兩種偏振類型之間的轉(zhuǎn)換參數(shù)，且與樣品有關(guān)。
規(guī)格
規(guī)格
模型FE-5000系列
測量方法旋轉(zhuǎn)分析儀法* 1
測量薄膜厚度范圍（nd）0.1納米至1微米
入射（反射）角范圍45至90度
入射（反射）角驅(qū)動方法自動正弦桿驅(qū)動系統(tǒng)
tan ψ 測量精度±0.01 或更小
cosΔ測量精度±0.01 或更小
薄膜厚度的重復(fù)性0.01% 或更低* 2
波長范圍* 3300至800納米
測量光源高穩(wěn)定性氙燈
舞臺驅(qū)動系統(tǒng)手動/自動
*1 偏振器可驅(qū)動，并配有可拆卸式延遲器用于消除死區(qū)。
*2 使用 VLSI 標(biāo)準(zhǔn) SiO2 薄膜（100 nm）時的數(shù)值。
*3 選擇自動載物臺時的數(shù)值。
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