應(yīng)用領(lǐng)域
P 4通過設(shè)置研磨碗自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速比率，可準(zhǔn)確的模仿各種受力的情況。獲得*的重復(fù)性的研磨過程，達(dá)到其它行星式研磨機(jī)達(dá)不到的效果。它是一種理想化的，適合各種機(jī)械活化和機(jī)械和金的研磨機(jī)。主要應(yīng)用于材料研究領(lǐng)域，以及任何需要一臺強(qiáng)有力的革新式的研磨機(jī)的領(lǐng)域。

工作原理
P 4研磨碗和支撐盤的旋轉(zhuǎn)速率可各自獨(dú)立的進(jìn)行調(diào)節(jié)，同時，研磨碗自轉(zhuǎn)與支撐盤公轉(zhuǎn)的傳動比率可根據(jù)需要進(jìn)行自由設(shè)置。當(dāng)研磨球在研磨碗內(nèi)進(jìn)行運(yùn)動時，球的運(yùn)動軌道依賴于旋轉(zhuǎn)速率，撞擊力和撞擊角度取決于旋轉(zhuǎn)速率和傳動比率。通過改變旋轉(zhuǎn)速率和傳動比率，便可產(chǎn)生出不同的高能摩擦力和撞擊力，以獲得不同效果的研磨過程。??

設(shè)計(jì)特點(diǎn)
?? 自由選擇控制研磨碗和支撐盤的旋轉(zhuǎn)速率和傳動比率，可以無限制改變的研磨條件
?? 通過RS323界面，采用專業(yè)的操作軟件實(shí)現(xiàn)對研磨時間、間歇時間以及循環(huán)模式的控制
?? 可進(jìn)行反方向旋轉(zhuǎn)，可通過調(diào)整旋轉(zhuǎn)速率進(jìn)行超負(fù)荷保護(hù)
?? 強(qiáng)通風(fēng)的研磨室可確保研磨樣品的充分冷卻
?? 薄膜保護(hù)的鍵盤，人性化的友好界面設(shè)置

優(yōu)點(diǎn)
?? 可實(shí)現(xiàn)zui終顆粒大小<<1μm的超細(xì)粉末研磨
?? 研磨碗自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速的傳動比率任意可調(diào)，可模仿各種球磨機(jī)在不同研磨參數(shù)下的研磨過程
?? 可充入惰性氣體進(jìn)行研磨 

附件
GTM氣體壓力和溫度測量系統(tǒng)
GTM系統(tǒng)可將此研磨儀轉(zhuǎn)化成為一個分析測量系統(tǒng)，它是*的一個可在研磨過程中持續(xù)的監(jiān)測氣體溫度和壓力變化的系統(tǒng)。通過無線發(fā)射和接受器可直接將數(shù)據(jù)傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，以Excel表格和圖形的形式顯示出來。
充入惰性氣體的研磨
當(dāng)使用特殊的研磨碗蓋子時，樣品便可在惰性氣體保護(hù)下進(jìn)行研磨。這個具有快速通風(fēng)的排入和排出閥門的蓋子，可以和專門為充入惰性氣體研磨而設(shè)計(jì)的附加的內(nèi)鎖系統(tǒng)同時使用，以實(shí)現(xiàn)對研磨碗的傳送和手套箱的操作。
研磨碗和研磨球
共有9種不同材質(zhì)研磨碗和研磨球的裝置可供選擇，包括瑪瑙，氮化硅，氧化鋁（99.7 %），氧化鋁（85 – 90 %），氧化鋯，不銹鋼，普通鋼，碳化鎢，包裹塑料的不銹鋼。
共有6種體積的研磨碗可供選擇，包括12ml，25 ml，45 ml，80ml，250ml，500ml。
共有7種直徑的研磨球可供選擇，包括5 mm，10mm，12mm，15mm，20 mm，30 mm，40mm。