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穆勒矩陣光譜橢偏儀結構詳解

來源:武漢頤光科技有限公司    2025年08月25日 16:00  
   穆勒矩陣光譜橢偏儀基于更普適的穆勒-斯托克斯形式主義。它通過系統(tǒng)性地改變入射光的偏振態(tài)(由起偏器和可調偏振態(tài)發(fā)生器實現(xiàn)),并精確測量所有四個斯托克斯參量構成的反射或透射光偏振態(tài)(由檢偏器和偏振態(tài)分析器實現(xiàn)),從而構建出一個4x4的穆勒矩陣 M。該矩陣完整描述了樣品對入射偏振光的所有改變(強度、偏振度、偏振方向、橢圓率等),包含了遠超Ψ和Δ的豐富信息,特別適用于分析具有各向異性、粗糙度、圖案化結構或存在去偏振效應的復雜樣品。
  一套典型的穆勒矩陣光譜橢偏儀主要由以下幾個關鍵子系統(tǒng)構成,它們協(xié)同工作,形成一個精密的光學測量鏈:
  1. 光源與光譜發(fā)生系統(tǒng)
  這是測量的起點,為整個系統(tǒng)提供寬波長范圍的入射光。
  光源: 通常采用高亮度、寬光譜的鹵鎢燈或氙燈。對于特定應用,也可能使用激光或LED陣列。光源的穩(wěn)定性和光譜連續(xù)性至關重要。
  單色儀/光譜儀: 在旋轉分析器/補償器型或成像型系統(tǒng)中,常使用單色儀將寬譜光色散,選擇特定波長進行測量。而在傅里葉變換型或基于陣列探測器的系統(tǒng)中,則使用光譜儀同時探測多個波長。現(xiàn)代多采用后者,利用寬帶光源配合高靈敏度陣列探測器實現(xiàn)快速光譜掃描。
  準直與聚焦光學: 包括透鏡、反射鏡等,用于將光源發(fā)出的光準直成平行光束,并精確聚焦到樣品表面的測量點上,確保光斑大小和入射角的可控性。
  2. 偏振態(tài)發(fā)生器
  負責生成一系列已知且精確可控的入射偏振態(tài)。
  起偏器: 通常是一個固定的線性偏振片,將光源發(fā)出的非偏振光轉換為特定方向的線偏振光,作為后續(xù)調制的基準。
  可調偏振態(tài)發(fā)生元件: 這是PSG的核心,用于在起偏器產(chǎn)生的線偏振光基礎上,通過改變其取向角和/或相位延遲,生成所需的任意偏振態(tài)(線偏、圓偏、橢圓偏)。常用技術包括:
  旋轉補償器: 使用一個固定的波片(通常是四分之一波片)和一個高速旋轉的補償器(另一個波片)。
  旋轉起偏器/分析器: 通過旋轉起偏器和/或檢偏器來改變偏振方向。結構相對簡單,但測量速度較慢。
  光電調制器: 利用壓電效應快速調制波片的相位延遲,實現(xiàn)高速、無移動部件的偏振態(tài)調制,但成本較高,光譜范圍可能受限。
  液晶可變延遲器: 通過電壓控制液晶分子的取向來改變相位延遲,可實現(xiàn)靜態(tài)、無移動部件的偏振態(tài)控制,靈活性高,但響應速度和光譜范圍需優(yōu)化。
  3. 樣品臺與角度控制
  樣品臺是光與樣品發(fā)生相互作用的場所,其精度直接影響測量結果。
  精密樣品臺: 提供穩(wěn)定的平臺放置樣品,通常具備XYZ三維平移調節(jié),確保測量光斑精確定位于樣品特定區(qū)域。
  角度控制機構: 關鍵的是入射角調節(jié)。通常在多個入射角下進行測量,以增加信息量,提高擬合精度。
  環(huán)境控制(可選):可能集成溫控、真空或氣氛控制腔室,用于研究樣品在不同環(huán)境下的動態(tài)變化。
  4. 偏振態(tài)分析器
  負責精確測量從樣品反射(或透射)回來的光的完整偏振態(tài)。
  檢偏器: 類似于起偏器,通常是一個線性偏振片。
  可調偏振態(tài)分析元件: 用于分析不同偏振分量。通過高速旋轉和同步探測,可以解調出反射光的四個斯托克斯參量。
  成像系統(tǒng):樣品表面的偏振信息投射到二維陣列探測器上,實現(xiàn)空間分辨的穆勒矩陣測量。
  5. 探測系統(tǒng)
  將光信號轉換為可處理的電信號。
  探測器: 根據(jù)光譜范圍選擇。要求高靈敏度、低噪聲、寬動態(tài)范圍和良好的線性響應。
  信號處理與采集: 包括放大器、模數(shù)轉換器(ADC)和高速數(shù)據(jù)采集卡。對于旋轉元件系統(tǒng),需要精確的同步信號(如編碼器信號)來觸發(fā)數(shù)據(jù)采集,確保在旋轉周期的每個角度位置都能準確記錄光強。
  6. 控制與數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)
  計算機與控制軟件: 控制光源、旋轉機構(速度、位置)、探測器采集、樣品臺移動等所有硬件。執(zhí)行測量序列,實時監(jiān)控數(shù)據(jù)。
  數(shù)據(jù)處理與建模軟件:采集到的原始光強數(shù)據(jù)經(jīng)過復雜的算法反演出穆勒矩陣元素。然后,用戶建立樣品的物理光學模型,軟件通過擬合計算出的穆勒矩陣與測量得到的穆勒矩陣,反演出模型參數(shù)(厚度、n、k、粗糙度、晶軸取向等),并評估擬合優(yōu)度。
 

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