旋涂儀又稱勻膠機、甩膠機等,是一種用于在基片表面均勻涂覆液體薄膜的設(shè)備。是一種廣泛應(yīng)用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造、微電子、光學(xué)和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的實驗室及生產(chǎn)設(shè)備,其核心功能是在基片(如硅片、玻璃片、聚合物片等)表面均勻涂覆液體薄膜(如光刻膠、聚合物溶液、生物材料等)。
將液體材料滴加到靜止或低速旋轉(zhuǎn)的基片中心,基片在電機驅(qū)動下高速旋轉(zhuǎn),離心力使液體材料從中心向外鋪展,隨著旋轉(zhuǎn)速度穩(wěn)定,液體材料在基片表面形成均勻的薄膜。對于含溶劑的液體,旋轉(zhuǎn)過程中溶劑揮發(fā),形成固態(tài)或半固態(tài)薄膜。
旋涂儀通過高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力,使液體材料均勻鋪展并形成厚度可控的薄膜。具體過程如下:
滴液:將液體材料(如光刻膠)滴加到靜止或低速旋轉(zhuǎn)的基片中心。
加速旋轉(zhuǎn):基片在電機驅(qū)動下高速旋轉(zhuǎn),離心力使液體材料從中心向外鋪展。
薄膜形成:隨著旋轉(zhuǎn)速度穩(wěn)定,液體材料在基片表面形成均勻的薄膜。
溶劑揮發(fā)(可選):對于含溶劑的液體,旋轉(zhuǎn)過程中溶劑揮發(fā),形成固態(tài)或半固態(tài)薄膜。
主要特點
高均勻性:能實現(xiàn)納米級厚度均勻性(±2% 以內(nèi)),適用于對薄膜均勻性要求很高的工藝,如光刻膠涂覆、抗反射涂層制備等。
厚度可控:通過調(diào)整旋轉(zhuǎn)速度、涂布時間和材料黏度等參數(shù),可以準(zhǔn)確控制涂層的厚度。
適用范圍廣:適用的材料種類廣泛,包括聚合物溶液、光刻膠、油墨、涂料等,還可用于硅片、玻璃、金屬等不同材質(zhì)的基板。
操作注意事項
操作時需選擇合適的吸附盤,將基片放正,開啟真空泵確保基片吸住后再啟動旋轉(zhuǎn)。滴膠動作要快,在規(guī)定時間內(nèi)完成。電機停轉(zhuǎn)后,才能打開上蓋取下片子,且要定期對抽氣室進行清洗,防止膠液吸入堵塞氣路。
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