生產環(huán)境中粉塵的危害性與粉塵中 SiO2 (游離二氧化硅) 含量密切相關。世界各國均將粉塵中游離二氧化硅含量作為制定粉塵衛(wèi)生標準的重要指標之一。工作場所中,游離二氧化硅含量大于10%的粉塵稱為矽塵。長期接觸矽塵會導致矽肺,這是我國最為嚴重的職業(yè)病之一。2014年國家安監(jiān)總局在《職業(yè)衛(wèi)生技術服務機構工作規(guī)范》(安監(jiān)總廳安健〔2014〕39 號)第十四條第(二)款規(guī)定:對于二氧化硅成分不明的粉塵或含游離二氧化硅的粉塵,應進行游離二氧化硅含量測定,確定粉塵性質。
游離二氧化硅是指沒有與金屬或金屬氧化物結合而呈游離狀態(tài)的二氧化硅。游離二氧化硅按晶體結構分為結晶型(crystalline)、隱晶型(crypto crystalline)和無定型(amorphous)三種。工作場所粉塵中游離二氧化硅含量的測定按照GBZ/T 192.4-2007《工作場所空氣中粉塵測定 第4部分:游離二氧化硅含量》進行,包含焦磷酸法、紅外分光光度計和X射線衍射法。焦磷酸法屬于手工操作,十分考驗實驗員基礎化學操作的熟練程度,因此對人員的要求較高,耗時又繁瑣,實驗結果受實驗人員操作熟練程度的影響較大;X射線衍射法,價格過于昂貴,對于基層的可普及性較差;紅外光譜法,操作簡便,測試快速,結果準確。整個過程僅使用了少量的溴化鉀試劑,環(huán)保且高效,目前對于基層可普及性較強。
實驗流程
1. 標準樣品配制:取約10、20、30、40、50、100毫克的α-SiO2分別于240、230、220、220、210、190、150毫克的溴化鉀粉末(200目)進行混勻。然后將混合粉末作為標準品進行取樣。
2. 標準樣品光譜獲?。簩⒒旌暇鶆虻臉悠泛弯寤浕旌衔锓旁趬浩>咧?,使轉移率在98%以上,將轉移至模具中的混合物堆成小山樣,然后進行壓片。取出制作好的樣品片放在紅外光譜儀器的透射支架上做吸光度測試。光譜如下圖1所示。

圖1 游離二氧化硅紅外吸收譜圖
3. 建立標準曲線:將獲得的標準曲線導入到軟件中,選擇合適的吸收峰進行建立模型,如下圖2所示,α-SiO2在800、780和694cm-1附近有吸收峰,我們分別取這個三個峰進行建模如下圖3、圖4和圖5,相關因子都在0.998以上。注意實際樣品可能對其中的吸收峰有干擾,我們應當選取合適的吸收峰的模型來計算樣品吸收。如在粉塵中含有粘土、云母、閃石、長石等成分時,應選用694cm-1處吸收峰的標準曲線。

圖2 游離二氧化硅建模

圖3 800cm-1附近游離二氧化硅標準曲線

圖4 780cm-1 附近游離二氧化硅標準曲線

圖5 694cm-1 附近游離二氧化硅標準曲線
4. 未知含量樣品定量:將樣品和溴化鉀混合壓片,然后放在紅外光譜儀器的透射支架上做吸光度測試獲取樣品譜圖。然后將調取標準曲線計算未知樣品的含量,如下圖6所示。

圖6 調用標準曲線計算樣品的游離二氧化硅含量
小結:
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