光譜干擾

• 譜線干擾：當(dāng)分析線與鄰近譜線未分開時(shí)，可通過改換優(yōu)質(zhì)空心陰極燈、減小狹縫寬度或調(diào)節(jié)燈電流來優(yōu)化譜線分離效果。若存在吸收線重疊干擾，可選用其他分析線或采用化學(xué)分離法消除干擾元素。
• 背景干擾：背景干擾包括分子吸收和光散射。分子吸收可通過改用高溫火焰減少分子形成，或使用背景校正技術(shù)（如氘燈背景校正、塞曼效應(yīng)背景校正）直接測量并扣除背景信號(hào)。光散射干擾可通過調(diào)節(jié)火焰觀測區(qū)高度或優(yōu)化霧化條件來降低。

物理干擾

物理干擾源于試樣與標(biāo)準(zhǔn)溶液物理性質(zhì)（如黏度、表面張力）差異導(dǎo)致的霧化效率變化。消除方法包括：配制與試樣組成相近的標(biāo)準(zhǔn)溶液，采用標(biāo)準(zhǔn)加入法，或通過稀釋試樣降低物理性質(zhì)差異。

化學(xué)干擾

化學(xué)干擾由待測元素與共存物質(zhì)反應(yīng)生成難揮發(fā)或難解離化合物引起。消除技巧包括：使用高溫火焰促進(jìn)化合物解離；加入釋放劑（如鑭鹽、鍶鹽）與干擾元素形成更穩(wěn)定化合物以釋放待測元素；加入保護(hù)劑（如EDTA、8-羥基喹啉）與待測元素形成穩(wěn)定絡(luò)合物防止其與干擾物反應(yīng)；在石墨爐原子化中加入基體改進(jìn)劑提高灰化溫度或降低原子化溫度。

電離干擾

電離干擾因待測元素原子在火焰中電離成離子導(dǎo)致基態(tài)原子數(shù)減少。消除方法包括：控制火焰溫度，選擇合適火焰類型；加入消電離劑（如易電離的堿金屬元素）提供大量自由電子抑制電離。