現(xiàn)貨TAIMEI CHEMICALS大明化學(xué)TM-UF氧化鋁超微粉
核心參數(shù)(公開版)
| 參數(shù) | TM-UF |
|---|---|
| 純度 | 99.99%(4N 級(jí)),低雜質(zhì) / 低放射性 |
| 晶體形態(tài) | α- 氧化鋁(剛玉相),晶體結(jié)構(gòu)致密 |
| 一次粒徑 | 0.09 μm(超細(xì)級(jí)別,優(yōu)于同系列 TM-DA/TM-DAR) |
| 中位徑 d50 | 0.14 μm(窄分布,粒徑均勻性好) |
| BET 比表面積 | 17.0 m2/g(高比表面積,利于燒結(jié)與分散) |
| 雜質(zhì)控制 | 鈉 / 鐵等關(guān)鍵雜質(zhì)<1ppm,適配半導(dǎo)體 / 電子污染需求 |
| 燒結(jié)特性 | 低溫?zé)Y(jié)適配性好,易獲得致密結(jié)構(gòu) |
| 包裝 | 常規(guī)為 1kg / 包,支持定制化包裝 |
核心優(yōu)勢(shì)
超微超細(xì)粒徑:一次粒徑 0.09 μm,d50 0.14 μm,窄分布,適合納米級(jí)材料混合與成型,提升產(chǎn)品致密度與性能均勻性。
4N 級(jí)高純與低污染:嚴(yán)格控制雜質(zhì)與放射性,適配半導(dǎo)體治具、電子陶瓷等對(duì)污染容忍的場(chǎng)景。
高比表面積與分散性:17.0 m2/g 比表面積,粉體分散性好,利于與其他材料復(fù)合,降低燒結(jié)溫度與收縮率波動(dòng)。
晶體結(jié)構(gòu)穩(wěn)定:α- 氧化鋁相純度高,化學(xué)穩(wěn)定性與耐磨性優(yōu)異,適合高溫 / 高濕等嚴(yán)苛工況。
適用場(chǎng)景與選型匹配
| 應(yīng)用場(chǎng)景 | 核心價(jià)值 | 選型參考 |
|---|---|---|
| 電子 / 半導(dǎo)體 | 基板、封裝材料、半導(dǎo)體治具 | 低放射性、高純、尺寸穩(wěn)定 |
| 精密陶瓷 | 電子陶瓷、結(jié)構(gòu)陶瓷、耐磨部件 | 低溫?zé)Y(jié)、致密結(jié)構(gòu)、高硬度 |
| 研磨 / 分散 | 納米級(jí)材料研磨介質(zhì)、漿料添加劑 | 超細(xì)粒徑、高分散、低污染 |
| 催化 / 吸附 | 特種催化劑載體 | 高比表面積、化學(xué)穩(wěn)定性 |
與同系列型號(hào)對(duì)比(關(guān)鍵差異)
| 型號(hào) | 一次粒徑 | 中位徑 d50 | BET 比表面積 | 核心差異 |
|---|---|---|---|---|
| TM-UF | 0.09 μm | 0.14 μm | 17.0 m2/g | 超精細(xì)粒徑,高比表面積,適合超精密成型 |
| TM-DA | 0.12 μm | 0.17 μm | 12.5 m2/g | 平衡粒徑與分散,適合常規(guī)精密陶瓷 |
| TM-DAR | 0.12 μm | 0.16 μm | 12.5 m2/g | 側(cè)重低放射性,適配半導(dǎo)體場(chǎng)景 |
| TM-5D | 0.20 μm | 0.25 μm | 8.2 m2/g | 粒徑稍大,適合對(duì)燒結(jié)效率要求高的場(chǎng)景 |
工藝與使用要點(diǎn)
分散與成型:超細(xì)粒徑易團(tuán)聚,建議用酒精 / 丙酮 + 分散劑超聲分散,成型壓力適中避免密度不均。
燒結(jié)控制:高比表面積利于低溫?zé)Y(jié)(建議 1400–1500°C),升溫速率 5–10°C/min,保溫 2–4 小時(shí),提升致密度。
雜質(zhì)管理:4N 級(jí)純度需匹配潔凈車間與專用工具,避免二次污染。
相關(guān)產(chǎn)品
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