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天恒科儀iCB/iAB/iAS/iNS/iFM/iWB/i3D系列設(shè)備全覽

來源:天恒科儀(蘇州)光電有限技術(shù)公司    2026年03月12日 17:23  

集成設(shè)備

在封裝、MicroLED顯示、AR/VR光學(xué)器件等精密制造領(lǐng)域,工藝的復(fù)雜性與對精度的要求與日俱增。無論是芯片的精準(zhǔn)互連、復(fù)雜結(jié)構(gòu)的圖形化,還是制程中的精密測量,都依賴于高可靠、高精度的核心設(shè)備。

天恒科儀(蘇州)光電技術(shù)有限公司 專注于為上述領(lǐng)域提供關(guān)鍵的工藝裝備。我們圍繞“鍵合、圖形化、測量”三大核心工藝環(huán)節(jié),自主研發(fā)了一系列集成設(shè)備,旨在為客戶從研發(fā)到量產(chǎn)的各個(gè)環(huán)節(jié),提供穩(wěn)定、高效的解決方案。


鍵合類設(shè)備

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iCB系列自動芯片鍵合機(jī)

  • 核心功能:用于芯片與芯片、芯片與晶圓之間的高精度對準(zhǔn)與鍵合,是實(shí)現(xiàn)Chiplet、MicroLED等封裝技術(shù)的關(guān)鍵設(shè)備。

  • 關(guān)鍵技術(shù):采用六自由度高精度運(yùn)動臺確保靈活定位,配備高精度力控鍵合頭以實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的鍵合壓力,并通過雙向鏡頭進(jìn)行上下芯片的標(biāo)記對準(zhǔn),保證對位精度。


  • 關(guān)鍵參數(shù)示例

  • 鍵合后精度覆蓋±0.1μm至±1μm,其中iHCB3000型號可達(dá)±0.1μm的高精度。

    • 提供高溫(450℃)高壓(4000N)及常溫鍵合(iHCB3000)等多種工藝選擇,適應(yīng)不同材料需求。

    • 可處理上芯片尺寸從1mm至150mm,下基片可支持300mm。


iAB系列自動晶圓鍵合機(jī)

  • 核心功能:專為晶圓與晶圓之間的鍵合設(shè)計(jì),適用于晶圓級封裝和3D集成。

  • 關(guān)鍵技術(shù):采用對準(zhǔn)與鍵合一體式設(shè)計(jì),無需額外夾具,簡化流程。集成高溫(550℃)、高壓(100kN)與高真空腔體,確保鍵合界面質(zhì)量。


  • 關(guān)鍵參數(shù)示例

    • 鍵合后精度可達(dá)±2μm(針對150mm晶圓)。

    • 支持150mm、200mm、300mm標(biāo)準(zhǔn)晶圓鍵合。


圖形化與成型類設(shè)備

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iAS系列大面積曝光機(jī)

  • 核心功能:用于在晶圓、面板等大尺寸基板上進(jìn)行圖形化光刻,適用于封裝、板級封裝及MicroLED面板制造。

  • 關(guān)鍵技術(shù):采用大面積掃描式曝光方式,兼顧效率與精度。具備高精度對準(zhǔn)與調(diào)平功能。


  • 關(guān)鍵參數(shù)示例

    • 提供LED和汞燈光源選項(xiàng)。

    • 可處理基板尺寸范圍廣,從150mm圓片到730mm x 920mm的大尺寸面板。

    • 分辨率達(dá)1μm。


iNS系列步進(jìn)納米壓印設(shè)備

  • 核心功能:通過納米壓印技術(shù),在基片上高效復(fù)制微納結(jié)構(gòu),特別適用于微透鏡陣列、光波導(dǎo)等光學(xué)元件的制造。

  • 關(guān)鍵技術(shù):全自動化流程,集成噴膠、壓印、UV固化與檢測。支持高精度拼版,適合大面積母版制作。


  • 關(guān)鍵參數(shù)示例

    • 壓印位置控制精度≤±0.5μm。

    • 單次壓印面積為50mm x 50mm。

    • 支持200mm和300mm基片。



量測與檢測類設(shè)備

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iFM系列芯片位置測量設(shè)備

  • 核心功能:高速、高精度地測量晶圓或基板上芯片(如LED芯片)的位置偏移,為后續(xù)拾取和鍵合提供坐標(biāo)補(bǔ)償數(shù)據(jù)。

  • 關(guān)鍵技術(shù):高速圖像處理,支持多尺寸基片。


  • 關(guān)鍵參數(shù)示例

    • 支持從4英寸到515mm x 510mm的多種基片尺寸。

    • 測量重復(fù)精度≤±150nm。

    • 測量效率高達(dá)250,000顆LED/分鐘。


iWB系列平面度測量設(shè)備

  • 核心功能

  • 非接觸式測量晶圓、芯片等基片的厚度、平整度、翹曲度等關(guān)鍵形貌參數(shù)。

  • 關(guān)鍵技術(shù):采用光譜共焦測量技術(shù),實(shí)現(xiàn)無損、高重復(fù)性測量。


  • 關(guān)鍵參數(shù)示例

測量重復(fù)性為0.35μm。

可測量200mm直徑的基片。

  • 可輸出厚度、TTV、BOW、Warp、LTV等完整參數(shù)。


i3D系列光學(xué)形貌3D檢測設(shè)備

  • 核心功能

  • 對菲涅爾透鏡、Pancake鏡片等旋轉(zhuǎn)對稱光學(xué)元件的三維面形進(jìn)行超精密測量。

  • 關(guān)鍵技術(shù)

  • 適用于從光滑到粗糙、透明到不透明的多種表面,測量傾角范圍大。


  • 關(guān)鍵參數(shù)示例

  • 測量重復(fù)性≤20nm。

  • 可測量物體傾角達(dá)90°。

  • 測量物體反射率范圍寬



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