MIKASA米卡薩旋涂涂布設(shè)備MS-B150 MIKASA米卡薩旋涂涂布設(shè)備MS-B150
日本MIKASA（米卡薩）是一家專(zhuān)注于半導(dǎo)體制造設(shè)備研發(fā)的企業(yè)，其旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)（旋涂）在半導(dǎo)體工藝中具有重要應(yīng)用。以下是關(guān)鍵信息點(diǎn)：

核心技術(shù)

旋轉(zhuǎn)涂布通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力將光刻膠均勻涂布在晶圓表面，厚度控制精度可達(dá)±2%，主流設(shè)備如AD-3000型旋涂機(jī)采用密閉式設(shè)計(jì)，適配潔凈室環(huán)境，可完成涂布、曝光、顯影、蝕刻等全流程工藝。 ?12

設(shè)備型號(hào)

• ?MS-B300?：支持8英寸晶圓，可形成50-500nm厚度的光刻膠薄膜，配備

  多級(jí)離心力補(bǔ)償系統(tǒng)

  ，適用于

  28nm制程工藝

  。 ?2

• ?MS-B100?：最大處理φ4英寸晶圓或75×75mm基板，采用

  無(wú)刷伺服電機(jī)

  ，轉(zhuǎn)速精度達(dá)±1rpm，支持100種模式設(shè)置，適用于科研及小尺寸基板加工。

技術(shù)發(fā)展

2014年開(kāi)發(fā)的偏心旋轉(zhuǎn)涂布技術(shù)通過(guò)優(yōu)化沉積方式，使有機(jī)薄膜晶體管性能達(dá)到多晶硅材料水平，為柔性顯示器件制造提供了新工藝路徑。 ?1

應(yīng)用領(lǐng)域

主要應(yīng)用于半導(dǎo)體制造前段工序（如光刻膠涂布），可提升晶圓良品率12%-15%，相關(guān)設(shè)備已納入高校實(shí)驗(yàn)課程作為光刻工藝核心教學(xué)內(nèi)容。 ?

代理銷(xiāo)售各類(lèi)工業(yè)品:，USHIO牛尾（點(diǎn)光源）CCS西西愛(ài)視，AITEC艾泰克（光箱、光源、圓形環(huán)形光），LEIMAC 雷馬克、HOYA光源

，REVOX萊寶克斯，Hitachi日立科學(xué)儀器、SIMCO思美高（離子棒），SSD西西蒂(離子風(fēng)扇)，KASUGA春日(離子棒)、MUSASHI武藏點(diǎn)膠機(jī)（點(diǎn)膠機(jī)）,Nordson諾信EFD（點(diǎn)膠機(jī)），IEI巖下（點(diǎn)膠機(jī)），EPSON愛(ài)普生機(jī)器人，KURABO倉(cāng)紡（脫泡機(jī)），日本THINKY新基脫泡機(jī)，TAGAWA十川（軟管），SHOWA昭和電機(jī)（鼓風(fēng)機(jī)），TSUBAKI椿本鏈條，KIKUSUI菊水（電源），CEDAR思達(dá)（扭力測(cè)試儀），MEISEI邁澤（電熱剝線器）、artray相機(jī)、TAKASAGO高砂制作所（直流電源）、RION理音（測(cè)振儀）、HOKUTO DENKO北斗電工、TML東京測(cè)器、SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)、FLOWELL 福威、ASAHI旭有機(jī)材、KYOWA共和（應(yīng)變片）、ONOSOKKI小野（傳感器）、FUJIKURA藤倉(cāng)（單向閥）、SK新瀉精機(jī)（水平測(cè)量尺）SKSATO佐藤（溫度記錄儀）、TECLOCK得樂(lè)（硬度計(jì)）、AND愛(ài)安得（電子天平）、KEM京都電子（水分儀）、TOHNICHI東日（扭力扳手）、ULVAC愛(ài)發(fā)科泵、IWAKI易威奇、SAN-EI三英(點(diǎn)膠閥）（泵）、kashiyama柏山（干式泵）、MARUYAMA丸山(泵)、、Kanetec強(qiáng) 力(高斯計(jì))、SAKURAI櫻井(無(wú)塵紙)、NIRECO尼利可(傳感器)、TOFCO東富科(流量計(jì))、eoptics頤光科技(反射膜厚儀)、TOKYO KEISO東京計(jì)裝(超聲波液位計(jì))、RKC理化工業(yè)(數(shù)顯控制器)、YAMATO雅瑪拓（恒溫箱）、YAMADA雅瑪達(dá)(隔膜泵)、KOFLOC小島(浮子流量計(jì)）、KITZ開(kāi)滋(閥門(mén))、CKD喜開(kāi)理(氣缸)、NYS西村化工(半導(dǎo)體)、三菱重工MHI 蝸輪減速機(jī)、Kanomax加野、PISCO碧士克、TOYO光通信器、FUJILATEX***精器、MIKI PULLEY三木普利、KONSEI近藤製作所 、SGK昭和技研、KOSEMK考世美、shibuya澀谷光學(xué)、hakko八光電機(jī)、Iwasaki巖崎、OTSUKA大塚電子（光學(xué)膜厚儀）、KOSAKA小坂（臺(tái)階儀）、HORIBA堀場(chǎng)儀器（分析儀）、SIBATA柴田科學(xué)（環(huán)境測(cè)定）、TORAY東麗濃度儀（氧氣分析儀）、yamada山田鹵素強(qiáng)光燈、CEDAR思達(dá)、MIKASA米卡薩（旋涂設(shè)備、顯影）、POLARION普拉瑞、otsuka大塚（膜厚儀、粒度儀）、Tsubosaka壺坂電機(jī),IMV愛(ài)睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機(jī),lambda拉姆達(dá)膜厚儀。