沉積速率監(jiān)控/控制系統(tǒng)
- 公司名稱 巨力科技有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 產(chǎn)地 美國(guó)
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2017/7/13 10:30:45
- 訪問(wèn)次數(shù) 580
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可控環(huán)境型微納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng),超納米壓痕儀,納米壓痕儀,動(dòng)態(tài)超顯微硬度計(jì),超顯微硬度計(jì),納米硬度計(jì),納米劃痕儀,顯微劃痕儀,大載荷劃痕儀,納米摩擦儀,摩擦儀,摩擦試驗(yàn)機(jī),高溫摩擦試驗(yàn)機(jī),真空摩擦試驗(yàn)機(jī),膜厚儀,球磨儀,高精度臺(tái)階儀,三維微納米輪廓儀,原子力顯微鏡，薄膜應(yīng)力測(cè)量?jī)x，全息顯微鏡，激光測(cè)振儀，激光干涉儀，激光測(cè)速儀，光譜型橢偏儀，掃描霍爾探針顯微鏡，精密d33測(cè)試儀，薄膜d33測(cè)試儀，高溫介電測(cè)量系統(tǒng)，表面等離子體共振儀，激光拉曼顯微鏡PCT測(cè)試儀，碳納米制備系統(tǒng)，原子層沉積系統(tǒng)，電子束蒸發(fā)系統(tǒng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)磁控濺射系統(tǒng)分子束外延系統(tǒng) MBE有機(jī)分子束沉積 OMBD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng) PECVD電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 ECR-PECVD低能離子減薄儀，離子減薄儀，拋光機(jī)，精密切片機(jī)，微熱臺(tái)
| 主要特點(diǎn)
＊實(shí)時(shí)薄膜沉積速率、薄膜厚度和光學(xué)常數(shù)（n&k）分析，同時(shí)標(biāo)準(zhǔn)偏差統(tǒng)計(jì)分析； ＊自動(dòng)程序化校準(zhǔn)； ＊精密的實(shí)時(shí)反饋系統(tǒng)； ＊程序控制，可實(shí)時(shí)多層薄膜沉積監(jiān)控和控制； ＊多Wafer監(jiān)控功能； ＊Wafer基底旋轉(zhuǎn)監(jiān)控和控制功能； ＊所有參量原位實(shí)時(shí)檢測(cè)； ＊操作裝配簡(jiǎn)單便捷； | ||
*的薄膜沉積速率監(jiān)控系統(tǒng)，采用無(wú)損的激光技術(shù)實(shí)時(shí)原位檢測(cè)薄膜沉積速率、薄膜厚度以及光學(xué)常量（n&k），可廣泛的應(yīng)用于金屬有機(jī)化學(xué)氣象沉積MOCVD、分子束外延MBE、濺射系統(tǒng)Sputtering和蒸發(fā)系統(tǒng)等薄膜沉積過(guò)程的實(shí)時(shí)原位監(jiān)控。 |
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