Wafer溫度實時檢測裝置
- 公司名稱 巨力科技有限公司
- 品牌
- 型號
- 產(chǎn)地 美國
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2017/7/21 11:14:48
- 訪問次數(shù) 1058
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可控環(huán)境型微納米力學(xué)測試系統(tǒng),超納米壓痕儀,納米壓痕儀,動態(tài)超顯微硬度計,超顯微硬度計,納米硬度計,納米劃痕儀,顯微劃痕儀,大載荷劃痕儀,納米摩擦儀,摩擦儀,摩擦試驗機,高溫摩擦試驗機,真空摩擦試驗機,膜厚儀,球磨儀,高精度臺階儀,三維微納米輪廓儀,原子力顯微鏡，薄膜應(yīng)力測量儀，全息顯微鏡，激光測振儀，激光干涉儀，激光測速儀，光譜型橢偏儀，掃描霍爾探針顯微鏡，精密d33測試儀，薄膜d33測試儀，高溫介電測量系統(tǒng)，表面等離子體共振儀，激光拉曼顯微鏡PCT測試儀，碳納米制備系統(tǒng)，原子層沉積系統(tǒng)，電子束蒸發(fā)系統(tǒng)熱蒸發(fā)系統(tǒng)超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)磁控濺射系統(tǒng)分子束外延系統(tǒng) MBE有機分子束沉積 OMBD等離子增強化學(xué)氣相淀積系統(tǒng) PECVD電子回旋共振等離子體增強化學(xué)氣相沉積 ECR-PECVD低能離子減薄儀，離子減薄儀，拋光機，精密切片機，微熱臺
| 技術(shù)參數(shù)
zui大溫度范圍：室溫~1300攝氏度； 溫度重復(fù)性：0.2攝氏度； 溫度分辨率：0.1攝氏度； 穩(wěn)定性：+/-0.2攝氏度； | ||
| 主要特點
＊實時、非接觸、非入侵、直接的Wafer溫度精確檢測； ＊Wafer表面2D溫度Mapping； ＊zui真實的Wafer表面或薄膜溫度檢測； ＊沉積速率分析； ＊測量激光波長范圍可選（例如：可見光波段、近紅外波段等） ＊避免了發(fā)射率變化對測量的影響； ＊無需沉積設(shè)備Viewport特殊涂層； | ||
*的半導(dǎo)體溫度測量裝置，對Wafer（及薄膜）表面溫度實時、非接觸、非入侵、zui直接的檢測；采用溫度和半導(dǎo)體材料對光的吸收邊沿（頻帶能量）相關(guān)性原理，即材料的本征特性，使得測量結(jié)果更為準(zhǔn)確；可裝載到MBE、MOCVD、濺射、蒸發(fā)系統(tǒng)等和熱處理、退火設(shè)備上，進(jìn)行實時溫度檢測。 | ||
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