SciDre 高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐介紹：

SciDre 高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐點

●  采用垂直式光路設(shè)計

●  采用高照度短弧氙燈，多種功率規(guī)格可選

●  熔區(qū)溫度：>3000℃

●  熔區(qū)壓力：10bar/50bar/100bar/150bar/300bar等多種規(guī)格可選

●  氧氣/氬氣/氮氣/空氣/混合氣等多種氣路可選

●  采用光柵控制技術(shù)，加熱功率從0-100% 連續(xù)可調(diào)

●  樣品腔可實現(xiàn)低至10-5mbar真空環(huán)境

●  豐富的可升選件

SciDre高溫高壓光學(xué)浮區(qū)法單晶爐技術(shù)參數(shù)

熔區(qū)溫度：高達(dá)2000 - 3000℃以上

熔區(qū)壓力：高至10、50、100、150、300 bar可選

熔區(qū)真空：1*10-2 mbar或 1*10-5 mbar可選

熔區(qū)氣氛：Ar、O2、N2等可選

氣體流量：0.25 – 1 L/min流量可控

氙燈功率：3kW至15kW可選

料棒臺尺寸：6.8mm或9.8mm可選

拉伸速率：0.1-50mm/h

調(diào)節(jié)速率：0.6 mm/s

拉伸尺寸：130mm，150mm，195mm可選

旋轉(zhuǎn)速率：0-70rpm

用電功率：400V三相 63A 50Hz

主機(jī)尺寸：330cm*163cm*92cm （不同規(guī)格略有差異）

發(fā)表文章

用戶單位

中國科學(xué)院物理研究所

中國科學(xué)院固體物理研究所

北京師范大學(xué)

中山大學(xué)

南昌大學(xué)

上海大學(xué)