配備為提供 XPS 性能而設(shè)計(jì)的單色化X射線源，確保ESCALAB Xi+ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 微探針有的樣品測(cè)試通量。多技術(shù)能力、一系列靈活的樣品制備室及樣品處理設(shè)備，使該儀器在解決任何表面分析問(wèn)題時(shí)都能游刃有余。利用的 Avantage 數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng)，從測(cè)試數(shù)據(jù)中挖掘盡可能多的信息。

ESCALAB Xi+ X 射線光電子能譜儀 (XPS) 微探針的特點(diǎn)：

• 高靈敏度能譜
• 小面積 XPS
• 深度剖析能力
• 角分辨 XPS
• 標(biāo)配離子散射能譜 (ISS)功能
• 標(biāo)配反射電子能量損失譜 (REELS)功能
• 標(biāo)配“樣品預(yù)處理"室
• 多技術(shù)分析的多功能性
• 多個(gè)樣品制備技術(shù)可選
• 全自動(dòng)無(wú)人值守式分析
• 多樣品分析

單色化X射線源

• 雙晶體微聚焦單色器配備一個(gè) 500 mm 直徑的羅蘭圓，使用鋁陽(yáng)極靶
• 樣品 X 射線光斑尺寸可選擇范圍為 200 至 900 μm

透鏡、分析儀和檢測(cè)器

• 透鏡/分析器/檢測(cè)器一體化使 ESCALAB 250Xi XPS 能譜儀同時(shí)具備成像和小面積 XPS 分析能力的獨(dú)特性
• 兩種類(lèi)型的檢測(cè)器可以確保為每種分析提供檢測(cè)——二維檢測(cè)器用于成像，基于通道電子倍增器的檢測(cè)器則用于需要檢測(cè)高計(jì)數(shù)率的能譜分析
• 透鏡配備了兩種電腦控制的光闌組件，一套視場(chǎng)光闌用于控制低至 <20 μm 的分析區(qū)域，適用于小面積分析；另一套光闌則用于控制透鏡的接收角，對(duì)于高質(zhì)量角分辨 XPS 至關(guān)重要
• 180° 半球型能量分析器

深度剖析

• 數(shù)控式 EX06 離子槍是一款高性能的離子源，哪怕在使用低能離子源時(shí)也有著很好的性能
• 提供方位角樣品旋轉(zhuǎn)

多技術(shù)能力

• 可配備其他分析技術(shù)而不降低 XPS 檢測(cè)性能
• 使用 EX06 離子槍時(shí)透鏡組和能量分析儀的電源可反向（確保離子散射能譜 (ISS) 可用）
• 電子槍可加壓升至 1000 V，為 REELS 提供優(yōu)異的離子源

技術(shù)選項(xiàng)

• 非單色化 X 射線光源的XPS分析
• AES（俄歇電子能譜）
• UPS（紫外光電子能譜）

真空系統(tǒng)

• 5 mm 厚高導(dǎo)磁?金屬分析室，提高磁屏蔽效率
• 與使用內(nèi)部或外部屏蔽的方法相比，屏蔽效能更佳

樣品制備

• 系統(tǒng)標(biāo)配一體化的快速進(jìn)樣室和制備室
• 額外的制備室可選

Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)

• 集成了測(cè)試分析的所有方面，包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生成
• 允許遠(yuǎn)程控制，并且可輕松與第三方軟件交互（例如 Microsoft Word）
• 管理從樣品載入到報(bào)告導(dǎo)出的整個(gè)分析過(guò)程

• 催化
• 化工
• 半導(dǎo)體
• 微電子
• 薄膜
• 太陽(yáng)能
• 金屬
• 納米材料
• 玻璃
• 高分子
• 生物材料