首頁>>鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>視頻展示>>磁控濺射鍍膜儀>>四靶磁控濺射鍍膜儀
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩(wěn)定工作
其他視頻
(空格分隔,最多3個,單個標(biāo)簽最多10個字符)
2