大理石光學(xué)平臺（Marble Optical Platform）適用于平面度要求比較高的實驗中。臺面材料采用健康型天然大理石平臺代替原有的鋼結(jié)構(gòu)平臺，其明顯優(yōu)點是平面度好、質(zhì)量大、穩(wěn)定性好、耐腐蝕性強。您可以根據(jù)實驗需求選擇不同的支架來進行光學(xué)系統(tǒng)實驗的搭建。
大理石光學(xué)平臺的平面度可以達到00級，比重：2970~3070kg/m2，抗壓強度：245?254 Mpa，彈性模量：1.27 ~ 1.47 Gpa，線膨脹系數(shù)：4.61x10-6/°C，吸水率：＜ 0.31%，肖氏硬度：70 Hs以上。聯(lián)合光科提供大理石 光學(xué)平臺定制服務(wù)。
聯(lián)合光科可為您提供配套的光機元件，同時我們有大量的標(biāo)準(zhǔn)庫現(xiàn)貨供應(yīng)。聯(lián)合光科衷心期望在您構(gòu)建光學(xué)實驗系統(tǒng)的過程中，能為您提供簡潔、經(jīng)濟、快捷的手段，并方便您使用過程中快捷的進行元件的固定、替換和調(diào)整。

產(chǎn)品特點
1. 該產(chǎn)品適用于平面度要求高的實驗；
2. 可根據(jù)實驗需求選擇不同支架

平面度00級

比重2970 ~ 3070 kg/m2

抗壓強度245?254 Mpa

彈性模量1.27 ~ 1.47 Gpa

線膨脹系數(shù)4.61x10-6/°C

吸水率＜ 0.31%

肖氏硬度70 Hs以上