原位MEMS技術(shù)：動(dòng)態(tài)觀測(cè)的新選擇

澤攸科技的原位MEMS技術(shù)采用微納加工工藝制造，可與主流透射電鏡兼容，適用于多種原位實(shí)驗(yàn)場(chǎng)景，例如：

• 熱學(xué)實(shí)驗(yàn)：通過精準(zhǔn)控溫，觀察材料在加熱或冷卻過程中的相變、晶格演變等行為。

• 力學(xué)實(shí)驗(yàn)：對(duì)納米材料或薄膜施加可控應(yīng)力，研究其變形、斷裂等力學(xué)響應(yīng)。

• 電學(xué)實(shí)驗(yàn)：施加電場(chǎng)或電流，研究材料的電致形變、導(dǎo)電性變化等現(xiàn)象。

該技術(shù)采用低應(yīng)力設(shè)計(jì)，有助于減少樣品漂移，提高成像穩(wěn)定性，使長(zhǎng)時(shí)間原位觀測(cè)成為可能。

技術(shù)特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)

澤攸科技的原位MEMS產(chǎn)品具有以下特點(diǎn)：

• 兼容性強(qiáng)：適配多種品牌透射電鏡，支持標(biāo)準(zhǔn)樣品桿接口。

• 高精度控制：溫控、力加載等參數(shù)可精確調(diào)節(jié)，滿足不同實(shí)驗(yàn)需求。

• 緊湊設(shè)計(jì)：MEMS芯片尺寸小，便于集成到TEM樣品臺(tái)，減少對(duì)電子束的遮擋。

• 多場(chǎng)景適用：適用于材料科學(xué)、半導(dǎo)體、能源存儲(chǔ)等領(lǐng)域的研究。

應(yīng)用案例

該技術(shù)已在多個(gè)研究方向得到應(yīng)用，例如：

• 納米材料研究：觀察碳納米管、二維材料等在熱或力作用下的結(jié)構(gòu)演變。

• 催化反應(yīng)：原位監(jiān)測(cè)催化劑在高溫或氣氛環(huán)境下的動(dòng)態(tài)行為。

• 電池材料：研究電極材料在充放電過程中的微觀結(jié)構(gòu)變化。

結(jié)語

澤攸科技的透射電鏡原位MEMS技術(shù)為動(dòng)態(tài)微觀表征提供了新的實(shí)驗(yàn)手段，可能幫助研究人員更深入地理解材料在外場(chǎng)作用下的行為。如需了解更多技術(shù)細(xì)節(jié)或應(yīng)用案例，歡迎聯(lián)系澤攸科技技術(shù)支持團(tuán)隊(duì)獲取進(jìn)一步信息。