生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW 參考價(jià)：面議
生長(zhǎng)納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐，專(zhuān)為生長(zhǎng)各種納米線而設(shè)計(jì)，基片Z大3″。在法蘭的左側(cè)裝有一個(gè)小加熱器，可對(duì)輸入的氣體、液體、...
四通閥 參考價(jià)：面議
四通閥包含3個(gè)接口、1個(gè)閥門(mén)，呈垂直且共面分布，其中2個(gè)KF40接口、1個(gè)KF25接口（可根據(jù)用戶要求改制），主要用于連接真空腔室與分子泵及真空規(guī)管，如磁控濺射...
密封裝置 參考價(jià)：面議
密封裝置主要用于在真空腔室上垂直安裝圓柱型元器件，安裝孔徑為19.2mm。
MSK-AFA-EI300 連續(xù)式、間歇式實(shí)驗(yàn)型自動(dòng)涂布機(jī) 參考價(jià)：面議
MSK-AFA-EI300連續(xù)式、間歇式實(shí)驗(yàn)型自動(dòng)涂布機(jī)是專(zhuān)門(mén)用于箔材表面涂敷的自動(dòng)化設(shè)備，采用PLC控制系統(tǒng)，人性化的中英文可切換操作界面；采用三輥轉(zhuǎn)移式涂布...
MSK-AFA-EI400 自動(dòng)涂布機(jī) 參考價(jià)：面議
MSK-AFA-EI400自動(dòng)涂布機(jī)專(zhuān)門(mén)用于箔材表面涂敷，采用PLC與人機(jī)控制系統(tǒng)，人性化的中英文可切換操作界面。本機(jī)采用三輥轉(zhuǎn)移式涂布，可在基材表面涂上非常均...
1700℃立式淬火爐 GSL-1700X-80VTQ 參考價(jià)：面議
1700℃立式淬火爐GSL-1700X-80VTQ采用直徑80mm的氧化鋁爐管、下置淬冷水箱結(jié)構(gòu)，專(zhuān)為淬火樣品能從高溫狀態(tài)進(jìn)入冷水或油等淬冷介質(zhì)中快速冷卻而設(shè)計(jì)...
MSK-2300A液壓平衡電動(dòng)對(duì)輥機(jī) 參考價(jià)：面議
MSK-2300A液壓平衡電動(dòng)對(duì)輥機(jī)是一款高精度軋平片設(shè)備，廣泛應(yīng)用于電池極片的壓實(shí)軋制。采用美國(guó)原裝NPAK液壓系統(tǒng)及PLC壓力控制系統(tǒng)、收放卷系統(tǒng)。在鋰電極...
25KW程序控溫感應(yīng)熔煉爐SP-25TC 參考價(jià)：面議
25KW程序控溫感應(yīng)熔煉爐SP-25TC是一款小型程控感應(yīng)熔煉系統(tǒng)，配備有直徑Φ100mm的石英管、不銹鋼法蘭、石墨坩堝、真空泵、水冷機(jī)和移動(dòng)架，Z大功率為25...
2000℃溫度可控型30KW感應(yīng)加熱爐SP-85KTC 參考價(jià)：面議
2000℃溫度可控型30KW感應(yīng)加熱爐SP-85KTC是一款較大型高溫感應(yīng)加熱、熔煉爐系統(tǒng)，配備30KW感應(yīng)加熱器、8.5″（216mm）石英管、鉸接式法蘭及閥...
加熱臺(tái) 參考價(jià)：面議
加熱臺(tái)主要用于VTC-600-2HD雙靶、VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀及GSL-1800X-ZF4蒸發(fā)鍍膜儀的樣品臺(tái)的加熱。
MSK-540 自動(dòng)裁邊機(jī) 參考價(jià)：面議
MSK-540自動(dòng)裁邊機(jī)應(yīng)用于鋰電池正、負(fù)極片單片去邊分切。
MSK-540自動(dòng)裁邊機(jī) 參考價(jià)：面議
MSK-540自動(dòng)裁邊機(jī)應(yīng)用于鋰電池正、負(fù)極片單片去邊分切。(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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