-
常備庫(kù)存：ORC日本UV照射裝置HUV-100
常備庫(kù)存：ORC日本UV照射裝置HUV-100高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 &a...
型號(hào)： HUV-100型
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:48:01
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置HUV-100
-
常備庫(kù)存：ORC日本UV照射裝置OHD-110M-ST
常備庫(kù)存：ORC日本UV照射裝置OHD-110M-ST高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 &a...
型號(hào)： OHD-110M-...
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:46:44
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置OHD-110M-ST
-
常備庫(kù)存：ORC日本UV照射裝置HUV-300
常備庫(kù)存：ORC日本UV照射裝置HUV-300高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5%...
型號(hào)： HUV-300型
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:45:37
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置HUV-300
-
大量現(xiàn)貨：ORC日本UV照射裝置QRU-2161-D
大量現(xiàn)貨：ORC日本UV照射裝置QRU-2161-D高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5% 以?xún)?nèi)，重復(fù)...
型號(hào)： QRU-2161-...
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:44:23
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置QRU-2161-D
-
大量現(xiàn)貨：ORC日本UV照射裝置QRU-2161-H
大量現(xiàn)貨：ORC日本UV照射裝置QRU-2161-H高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5% 以?xún)?nèi)，重復(fù)...
型號(hào)： QRU-2161-...
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:43:33
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置QRU-2161-H
-
大量現(xiàn)貨：日本ORCUV照射裝置VUM-3500
大量現(xiàn)貨：日本ORCUV照射裝置VUM-3500高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5% 以?xún)?nèi)...
型號(hào)： VUM-3500型
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:40:49
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置VUM-3500
-
大量現(xiàn)貨：日本ORCUV照射裝置VUS-3300
大量現(xiàn)貨：日本ORCUV照射裝置VUS-3300高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5% 以?xún)?nèi)，重復(fù)精度...
型號(hào)： VUS-3300型
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:40:03
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置VUS-3300
-
大量現(xiàn)貨：日本ORCUV照射裝置HMW-615N-3
大量現(xiàn)貨：日本ORCUV照射裝置HMW-615N-3高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 &am...
型號(hào)： HMW-615N-...
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:38:46
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置HMW-615N-3
-
原裝新品：日本ORCUV照射裝置HMW-615N-4
原裝新品：日本ORCUV照射裝置HMW-615N-4高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 &am...
型號(hào)： HMW-615N-...
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:37:21
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置HMW-615N-4
-
原裝新品：日本ORCUV照射裝置VUM-3073F
原裝新品：日本ORCUV照射裝置VUM-3073F高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 &#17...
型號(hào)： VUM-3073F...
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:36:41
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置VUM-3073F
-
原裝新品：日本ORCUV照射裝置VUS-3100
原裝新品：日本ORCUV照射裝置VUS-3100高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5% 以?xún)?nèi)...
型號(hào)： VUS-3100型
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:35:56
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置VUS-3100
-
原裝新品：日本ORCUV照射裝置VUS-3100-R
原裝新品：日本ORCUV照射裝置VUS-3100-R高精度測(cè)量：如 ORC 的 UV-351，測(cè)量波長(zhǎng)范圍為 310-385nm，精度在 ±1.5% 以?xún)?nèi)，重復(fù)...
型號(hào)： VUS-3100-...
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/5/14 15:34:42
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體UV照射裝置VUS-3100-R
-
中村現(xiàn)貨：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列
中村現(xiàn)貨：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-8310兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造...
型號(hào)： EDi-8310
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/4/24 15:48:50
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-8310
-
中村庫(kù)存：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列
中村庫(kù)存：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-8308兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造...
型號(hào)： EDi-8308
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/4/24 15:47:38
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-8308
-
原裝新品：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列
原裝新品：日本ORC光刻系統(tǒng)EDi系列EDi-5308兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造...
型號(hào)： EDi-5308
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/4/24 15:45:54
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體臭氧發(fā)生器EDi-5308
-
原裝新品：日本ORC臭氧發(fā)生器
原裝新品：日本ORC臭氧發(fā)生器ARV-O3ME兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。寬...
型號(hào)： ARV-O3ME
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/4/24 15:42:05
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體臭氧發(fā)生器ARV-O3ME
-
中村到貨：日本ORC臭氧發(fā)生器
中村到貨：日本ORC臭氧發(fā)生器ARV-O3MG兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。寬...
型號(hào)： ARV-O3MG
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/4/24 15:37:41
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體臭氧發(fā)生器ARV-O3MG
-
中村供應(yīng)：日本ORC 臭氧發(fā)生器
中村供應(yīng)：日本ORC 臭氧發(fā)生器ARV-O3XP兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景。...
型號(hào)： ARV-O3XP
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/4/24 15:25:57
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體臭氧發(fā)生模塊ARV-O3XP
-
中村供應(yīng)：日本ORC臭氧發(fā)生模塊
中村供應(yīng)：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M1000A兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)...
型號(hào)： ARV-M1000...
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/4/24 15:19:37
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體臭氧發(fā)生模塊ARV-M1000A
-
現(xiàn)貨庫(kù)存：日本ORC臭氧發(fā)生模塊
現(xiàn)貨庫(kù)存：日本ORC臭氧發(fā)生模塊ARV-M500A兼容多種應(yīng)用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術(shù)，適用于多種半導(dǎo)體制造場(chǎng)景...
型號(hào)： ARV-M500A
所在地：長(zhǎng)沙市
參考價(jià)：
￥10000更新時(shí)間：2025/4/24 15:18:12
對(duì)比
ORC/日本尺寸52mm x33mm半導(dǎo)體臭氧發(fā)生模塊ARV-M500A
