| 產(chǎn)地類別 |
進(jìn)口 |
應(yīng)用領(lǐng)域 |
環(huán)保,能源,建材/家具,電子/電池,電氣 |
| 型號(hào) |
PM2001N-3 |
產(chǎn)地 |
日本 |
| 品牌 |
SEN |
照射尺寸 |
200×200mm |
日本SEN日森 UV/EB清洗系統(tǒng)PM2001N-3工作原理
光分解作用:可同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng) 254nm 和 185nm 的紫外光,這兩種波長(zhǎng)的光子能量能夠直接打開和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵,使有機(jī)物分子活化,分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。

日本SEN日森 UV/EB清洗系統(tǒng)PM2001N-3工作原理:
光分解作用:可同時(shí)發(fā)射波長(zhǎng) 254nm 和 185nm 的紫外光,這兩種波長(zhǎng)的光子能量能夠直接打開和切斷有機(jī)物分子中的共價(jià)鍵,使有機(jī)物分子活化,分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子等。
光敏氧化作用:185nm 波長(zhǎng)紫外光的光能量能將空氣中的氧氣(O?)分解成臭氧(O?);254nm 波長(zhǎng)的紫外光的光能量能將 O?分解成 O?和活性氧(O)。活性氧原子(O)有強(qiáng)烈的氧化作用,與活化了的有機(jī)物分子發(fā)生氧化反應(yīng),生成揮發(fā)性氣體(如 CO?、CO、H?O、NO 等)逸出物體表面,從而清除粘附在物體表面上的有機(jī)污染物。
日本SEN日森 UV/EB清洗系統(tǒng)應(yīng)用場(chǎng)景:
電子行業(yè):可用于液晶顯示器件、觸摸屏、半導(dǎo)體硅芯片、集成電路、高精度印制電路板等的表面清洗,去除光刻膠、油污、指紋等污染物,提高后續(xù)工藝的良品率和可靠性。
光學(xué)行業(yè):能對(duì)光學(xué)器件、石英晶體等進(jìn)行清洗,去除表面的灰塵、油污和有機(jī)雜質(zhì),保證光學(xué)性能和成像質(zhì)量。
材料處理領(lǐng)域:用于各種基材的預(yù)處理,如金屬和玻璃,可改善表面潤(rùn)濕性,提高對(duì)粘合劑、油漆和涂料的附著力。
其他領(lǐng)域:在密封技術(shù)、帶氧化膜的金屬材料處理等方面也有應(yīng)用,有助于提高材料的表面性能和使用壽命。