目錄:杭州玉之泉精密儀器有限公司>>紫外激光直寫光刻系統(tǒng)>> 紫外激光直寫光刻系統(tǒng)_AOD
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 綜合 |
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紫外激光直寫光刻系統(tǒng)_AOD：激光直寫設(shè)備主要用于無掩膜直接曝光轉(zhuǎn)移微結(jié)構(gòu)圖案，以制備衍射光學(xué)元件、微機電系統(tǒng)。用于涂有光刻膠體的各種基板在(比如玻璃、硅片或其它平面材料)進行無掩膜直接曝光，將作為衍射光學(xué)元件、微機電系統(tǒng)加工平臺設(shè)備。
| 紫外激光直寫光刻系統(tǒng)_AOD直寫性能參數(shù) | ||||||
| 寫頭 | 高分辨 | 100× | 50× | 20× | 10× | 5× |
| 最小特征尺寸（μm） | 0.25 | 0.3 | 0.6 | 1 | 2 | 4 |
| 粗糙度（3σ，nm) | 50 | 60 | 70 | 80 | 110 | 160 |
| CD均勻性（3σ，nm) | 50 | 60 | 80 | 130 | 180 | 250 |
| 套刻精度100×100mm²（nm) | 300 | 300 | 500 | 500 | 800 | 1000 |
| 寫入速度mm²/min | 5 | 15 | 40 | 150 | 600 | 2000 |
| 100×100mm²刻寫時間(min) | 3000 | 740 | 255 | 72 | 20 | 7 |
| 系統(tǒng)特點 | ||||||
| 光源 | 405nm或375nm | |||||
| 基板尺寸 | 最大9寸 | |||||
| 基板厚度 | 0.1mm~15mm | |||||
| 最大曝光面積 | 200×200mm² | |||||
| 溫度穩(wěn)定性 | ±0.1° | |||||
| 灰度等級 | 4096 | |||||
| 擴展性 | 支持多通道擴展 | |||||
| 特色功能 | ||||||
| 腳本化刻寫模式 | 提供腳本化編程接口，支持用戶自定義加工結(jié)構(gòu) | |||||
| 刻寫與切片軟件 | 支持JPG、TIFF、GDS等多種格式 | |||||
| 實時自動對焦 | 光學(xué)對焦 | |||||
| 自動對焦范圍 | 100μm | |||||
| 系統(tǒng)配件 | ||||||
| 物鏡 | 5×，10×，20×，50×，100×，可選高分辨鏡頭 | |||||
| 系統(tǒng)尺寸 | ||||||
| 長寬高 | 1320mm×1320mm×2000mm | |||||
| 重量 | 1100KG | |||||
| 安裝條件 | ||||||
| 電氣條件 | 230VAC±5%，50/60Hz,16A | |||||
| 環(huán)境溫度 | 溫度：21±1攝氏度，濕度：50%~70%，無冷凝 | |||||
| 壓縮空氣 | 6-9bar,±0.5bar | |||||
| 環(huán)境照明 | 黃光 | |||||
| 潔凈等級 | 千級潔凈間 | |||||
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