EP4 橢偏顯微鏡
- 公司名稱 上海茂默科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 Park
- 型號 EP4
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時(shí)間 2025/11/26 17:14:05
- 訪問次數(shù) 37
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| 產(chǎn)地類別 | 進(jìn)口 | 價(jià)格區(qū)間 | 80萬-100萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,電子/電池,制藥/生物制藥,電氣,綜合 |
Accurion EP4 橢偏顯微鏡
用途:多層薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)(n、k值)測量
橫向分辨率(x/y方向)小至1微米,薄膜厚度測量精度0.1納米。
選區(qū)測量功能:實(shí)現(xiàn)微結(jié)構(gòu)試樣和微小試樣的選區(qū)橢偏測量
全顯微鏡視場直接成像,取代傳統(tǒng)單點(diǎn)測量
光斑切割技術(shù),真正實(shí)現(xiàn)超薄透明;基底上薄膜的無背底反射橢偏測量
多種技術(shù)聯(lián)用,如:原子力顯微鏡(AFM),
表面等離子共振(SPR),反射光譜(RefSpec),
拉曼光譜儀(RamanSpec),石英晶體微天平(QCM),
白光干涉儀(WLI)和LB槽/膜天平等

Accurion EP4 橢偏顯微鏡
用途:多層薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)(n、k值)測量
橫向分辨率(x/y方向)小至1微米,薄膜厚度測量精度0.1納米。
選區(qū)測量功能:實(shí)現(xiàn)微結(jié)構(gòu)試樣和微小試樣的選區(qū)橢偏測量
全顯微鏡視場直接成像,取代傳統(tǒng)單點(diǎn)測量
光斑切割技術(shù),真正實(shí)現(xiàn)超薄透明;基底上薄膜的無背底反射橢偏測量
多種技術(shù)聯(lián)用,如:原子力顯微鏡(AFM),
表面等離子共振(SPR),反射光譜(RefSpec),
拉曼光譜儀(RamanSpec),石英晶體微天平(QCM),
白光干涉儀(WLI)和LB槽/膜天平等



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