低能電子顯微鏡/LEEM介紹：

LEEM是廣泛應(yīng)用于材料科學領(lǐng)域的高技術(shù)分析儀器，能集原位觀測、超快及光電子成像于一體，即我們所稱的“長眼睛的超級XPS"，能對薄膜以及二維材料、鋰離子電池、鈣鈦礦太陽能電池材料等的表面電子行為進行實時激發(fā)、圖像采集及定量分析，此外LEEM還可定量地解析各種薄膜材料在生長過程中所處的能帶狀態(tài)，因而可以對電子材料制備、使用和失效過程進行有效的表征，從而揭示電子材料的化學成分、能帶及其價態(tài)與性能的作用機理。LEEM與成像功能和離子濺射刻蝕相結(jié)合，可以用于固體表面元素成分及價態(tài)的面分布和深度剖析；與離子蒸鍍或其他分子束外延技術(shù)相結(jié)合，可以進行原位樣品的制備及分析工作。當電子到樣品的著陸能量較低時，會在樣品表面發(fā)生衍射。對衍射斑點進行成像，可以獲得LEED圖像，得知表面晶向結(jié)構(gòu)。同時可以與光闌配合，調(diào)控電子束在表面的位置與大小，進行微區(qū)LEED表征，這樣就不僅可以對樣品表面進行實空間成像，還可以得知樣品各微觀位置的晶向結(jié)構(gòu)。這也是PEEM/LEEM系統(tǒng)一大優(yōu)勢。因此，LEEM在電子薄膜材料、半導體材料、納米材料、能源、催化分析等方面具有不可替代的作用。

低能電子顯微鏡/LEEM配置清單：

技術(shù)參數(shù)：

1、主分析腔真空≤2×10-10mbar，主分析腔和快速進樣腔之間配有過渡腔，留有擴展接口，可用于后期與其它設(shè)備互聯(lián)

2、高精度5軸馬達全自動驅(qū)動樣品臺，XYZ和2個Tilt方向全部馬達驅(qū)動

3、高通量放電汞燈一個，用于PEEM成像

4、高溫成像樣品溫度可達1500K

5、磁偏轉(zhuǎn)棱鏡采用90°偏轉(zhuǎn)，易于光路整體校正

6、冷場發(fā)射電子槍，電子束斑直徑200nm- 40μm，能量分布FWHM≤0.3eV；空間分辨率＜5nm（LEEM模式），＜10nm（PEEM模式）；像差校正：LEEM空間分辨率優(yōu)于3nm

7、能量分辨率<250meV

8、樣品位置穩(wěn)定性＜5nm，再現(xiàn)性＜500nm

9、軟件能操控能量狹縫位置，可快速實現(xiàn)能量過濾成像