NS-30系列 桌面式自動膜厚測量分析系統(tǒng)
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 蘇州悉識科技有限公司
- 品牌
- 型號 NS-30系列
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/11/4 13:07:52
- 訪問次數(shù) 291
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷,汽車及零部件 |
Wafer晶圓外延在線膜厚監(jiān)控是半導體制造中的關(guān)鍵技術(shù)，主要采用非接觸式光學測量方法，實現(xiàn)外延生長過程中的實時厚度監(jiān)測和控制。
NS-30系列是蘇州悉識科技有限公司生產(chǎn)的桌面式自動膜厚測量分析系統(tǒng)，專門用于Wafer晶圓外延在線膜厚監(jiān)控。該設備采用先進的光學測量技術(shù)，具有高精度、高穩(wěn)定性和智能化特點，在半導體制造領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。
一、核心技術(shù)原理
NS-30系列膜厚儀基于白光干涉原理進行測量。設備向待測晶圓表面的薄膜垂直照射高穩(wěn)定寬波段光，入射光在薄膜上表面發(fā)生反射，另一部分透射進入薄膜并在薄膜與襯底界面處反射。這兩束反射光相互干涉形成干涉圖樣，通過光譜分析以及回歸算法可計算出薄膜各層的厚度、折射率和反射率等參數(shù)。
二、主要技術(shù)參數(shù)
三、核心功能特點
1、高精度測量能力
- 亞納米級精度：測量精度可達0.02nm，實現(xiàn)納米級薄膜厚度測量；
- 高重復性：重復精度0.02nm，確保測量結(jié)果的一致性和可靠性；
- 寬測量范圍：覆蓋1nm-250μm的厚度測量范圍，滿足不同應用需求；
2、自動化測量功能
- 自動測樣載臺：平臺尺寸100mm-450mm可選，支持大尺寸晶圓測量；
- 智能點位分布：軟件根據(jù)需求自動生成測量點位分布，支持多點位自動測量；
- 2D/3D測繪：生成厚度、折射率、反射率等參數(shù)的2D和3D分布圖；
3、非接觸無損測量
- 光學非接觸：采用非接觸式測量，避免對晶圓表面造成損傷；
- 多層膜測量：可測量多層復合薄膜各層的厚度和光學參數(shù)；
- 材料適應性：適用于透明或半透明膜層，包括氧化物、氮化物、光阻等材料；
四、在Wafer晶圓外延監(jiān)控中的應用
1、工藝控制優(yōu)勢
NS-30系列在Wafer晶圓外延工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用：
- 實時監(jiān)控：可在ALD原子層沉積、CVD化學氣相沉積等制程中進行在線原位測量
- 工藝優(yōu)化：通過精確的膜厚數(shù)據(jù)反饋，實現(xiàn)工藝參數(shù)的實時調(diào)整和優(yōu)化
- 質(zhì)量保證：確保外延層厚度均勻性，提高半導體器件的性能和可靠性
2、測量效率提升
- 高速測量：單次測量時間小于1秒，支持快速批量檢測
- 批量處理：支持8英寸晶圓盒的自動傳輸，顯著提升測量效率
- 智能分析：配備強大的分析軟件，自動進行SPC統(tǒng)計分析和數(shù)據(jù)管理
3、應用領(lǐng)域擴展
除了Wafer晶圓外延監(jiān)控外，NS-30系列還廣泛應用于：
- 半導體制造：測量SiO?、SiNx、多晶硅等關(guān)鍵膜層
- 光伏電池：TOPCon的Al?O?/SiNx疊層膜、HJT的TCO透明導電膜
- 光學鍍膜：AR抗反射層、AG防眩光涂層、濾光片等
- 顯示面板：OLED、TFT、ITO等薄膜層厚度測量
NS-30系列桌面式自動膜厚儀憑借其高精度、高穩(wěn)定性和智能化特點，為Wafer晶圓外延在線膜厚監(jiān)控提供了可靠的解決方案，在半導體制造、光伏、顯示等高科技領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。
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