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PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。該產(chǎn)品是由固態(tài)等離子源、氣體質(zhì)
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ATLANT3D推出了直接原子層加工技術(shù)——能實(shí)現(xiàn)原子級精度、無掩模直
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等離子增強(qiáng)型原子層沉積設(shè)備（ALD）-TFS200
BeneqTFS200專為學(xué)術(shù)和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計(jì)，是一款用途廣泛的原子層沉
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派瑞林真空鍍膜機(jī) Parylene鍍膜系統(tǒng)
派瑞林真空鍍膜機(jī)Parylene鍍膜系統(tǒng)專為實(shí)驗(yàn)室應(yīng)用優(yōu)化設(shè)計(jì)，配備內(nèi)
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AT810 經(jīng)濟(jì)性原子層沉積設(shè)備
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AT610 經(jīng)濟(jì)性原子層沉積設(shè)備
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卷對卷PECVD石墨烯制備設(shè)備主要應(yīng)用于計(jì)算機(jī)和智能手機(jī)屏幕，超輕
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AT650/850T 臺(tái)式熱原子層沉積設(shè)備
AT650/850T臺(tái)式熱原子層沉積設(shè)備，具備現(xiàn)場升級為等離子體模式的能
技術(shù)文章
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