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6/8英寸全自動槽式清洗機
GAMA系列6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應(yīng)用，可用于典型0.35um、0.1...
型號： GAMA Seri... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:55:40 對比

GAMA Series 6/8英寸全自動槽式清洗機北方華創(chuàng)
12英寸槽式清洗設(shè)備
12英寸槽式清洗設(shè)備Pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源...
型號： Pinnacle3... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:51:45 對比

Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備北方華創(chuàng)
全自動硅料清洗機
主要用于對硅材料行業(yè)中多晶硅塊進行清洗干燥處理
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:29:24 對比

硅料清洗機全自動硅料清洗機 customized
晶片清洗機
英思特長期致力于半導(dǎo)體等行業(yè)干濕制程設(shè)備、自動供/排液系統(tǒng)、甩干機等設(shè)備的設(shè)計、生產(chǎn)、銷售及設(shè)備的優(yōu)化。期待與您的合作！
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:23:49 對比

晶片清洗機半導(dǎo)體
硅芯清洗機
設(shè)備介紹:硅芯清洗機本設(shè)備為柜體式腐蝕機,整臺設(shè)備均采用進口件.基本材質(zhì):箱體材質(zhì):德國茲白色聚丙烯(PP) 門板材質(zhì):德國透明聚氯乙烯(PVC)腐蝕槽材質(zhì):德...
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:21:30 對比

硅芯清洗機半導(dǎo)體英斯特
硅片腐蝕清洗機
英思特長期致力于半導(dǎo)體等行業(yè)干濕制程設(shè)備、自動供/排液系統(tǒng)、甩干機等設(shè)備的設(shè)計、生產(chǎn)、銷售及設(shè)備的優(yōu)化。期待與您的合作！
型號： customize... 所在地：南通市參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:17:39 對比

清洗機腐蝕清洗機硅片腐蝕
CMP后清洗機
GNP CLEANER-412S型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號： GNP CEANE... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:14:15 對比

半導(dǎo)體清洗濕法
CMP后清洗機
GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:11:54 對比

半導(dǎo)體濕法清洗
CMP后清洗機
GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:09:28 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機械拋光
CMP后清洗機
GNP CLEANER-812L型CMP后清洗機集成了兩個雙刷站，設(shè)計緊湊，占地面積小，可清洗(8“~12")晶圓。
型號： GNP CLEAN... 所在地：韓國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:06:03 對比

半導(dǎo)體濕法化學(xué)機械拋光
晶圓濕法清洗工作臺
WaferStorm平臺是先進封裝、MEMS、射頻、數(shù)據(jù)存儲和光子學(xué)市場中許多關(guān)鍵溶劑型工藝的行業(yè)選擇。有 2 個版本——手動加載（ML）和 3300 系列...
型號： 3300系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 11:44:48 對比

晶圓清洗清洗設(shè)備
條形等離子清潔系統(tǒng)
80 Plus 條形等離子清潔系統(tǒng)專為半導(dǎo)體加工而開發(fā)，可支持手動及自動操作，兩種操作方式均簡單易用。該系統(tǒng)可以配備或不配備裝卸站；此外，每個裝卸站都可支持不同...
型號： 80 Plus 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:27:06 對比

半導(dǎo)體前道清洗
大氣式等離子清潔系統(tǒng)
PlasmaPen™ 是PVA TePla的大氣式等離子清潔系統(tǒng)，可滿足各種表面處理要求，如表面清潔及表面活化。
型號： PlasmaPen... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 10:25:12 對比

半導(dǎo)體前道清洗
清洗設(shè)備
SUSS MicroTecs ASx 系列為加工掩模和 250 nm 至 90 nm 技術(shù)節(jié)點提供了優(yōu)良的烘烤、顯影和清潔方法。其可靠性、穩(wěn)定性和高性能使平臺能...
型號： ASx 系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:33:18 對比

SUSS 清洗設(shè)備研磨
掩膜版清洗系統(tǒng)
掩模的完整性對高標準光刻工藝的成功起主要作用。MaskTrack Pro 掩膜清洗處理系統(tǒng)滿足下一代光刻節(jié)點在掩模清洗、烘烤和顯影工藝方面的所有標準。它是應(yīng)對 ...
型號： MaskTrack... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 8:31:14 對比

SUSS 掩膜版清洗
晶片清洗機
本機是一款全自動晶片刷洗機，全程封閉環(huán)境采用機械手自動操作，具備刷洗甩干功能，適用于各種半導(dǎo)體襯底材料拋光后的刷洗，可有效減少晶片表面顆粒污染。
型號： TWB-200 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 21:09:51 對比

CMP
CMP后清洗機
該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備，有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應(yīng)用場景，其中連線式設(shè)備加配全自動上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗...
型號： TSC-100/3... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 21:08:01 對比

CMP
CMP后清洗機
該系列設(shè)備是碳化硅晶圓拋光后的專用清洗設(shè)備，采用連線式結(jié)構(gòu)，設(shè)備加配全自動上下片系統(tǒng)。該系列設(shè)備配有漂洗、雙面刷洗、兆聲清洗、N2吹干、高速甩干功能，集成度高，...
型號： TSC-150C/... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/5 21:05:49 對比

CMP后清洗
單片式化學(xué)清洗機
KS-CM300/200 單片式化學(xué)清洗機適用于沉積前清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、CMP后清洗等多種前段工藝（FEOL）和后段工藝（BEOL）清洗進程，可...
型號： KS-CM300/... 所在地：沈陽市參考價：面議更新時間：2025/6/5 20:15:51 對比

清洗設(shè)備
紫外線臭氧清洗設(shè)備
UV-300HC紫外線臭氧清洗設(shè)備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機，用于生產(chǎn)。這個行業(yè)先的系統(tǒng)有2個裝載盒，可以達到200-300nm/min的高灰化率。該...
型號： UV-300HC 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:15:58 對比

紫外線臭氧清洗設(shè)備 UV-300HC SAMCO

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