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深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司

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全自動(dòng)CMP晶圓清洗一體機(jī)

參  考  價(jià):面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)GNP GPC-300A

品牌G&P

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地韓國(guó)

更新時(shí)間:2025-06-06 11:50:12瀏覽次數(shù):786次

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韓國(guó)G&P的全自動(dòng)CMP晶圓清洗一體機(jī)是一臺(tái)可以自動(dòng)拋光和清潔300毫米晶圓的機(jī)器。

規(guī)格:

拋光機(jī)部分機(jī)頭,工作臺(tái):30- 200rpm,旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),機(jī)頭振蕩(±15mm)

拋光機(jī)尺寸:1626 *1500 *1950毫米

重量:2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸),特氟龍涂層鋁

壓制方式:可變空氣

壓力電子控制器膜類型:70-350/平方厘米(1 psi~5 psi)12"晶圓片

CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSGTEOS、SC)、金屬CMP(W、Cu)、STI、PGI

可添加選項(xiàng)

墊式調(diào)理方法:擺頭式或擺臂式

單頭或雙頭系統(tǒng)

摩擦力和溫度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

清潔:

清洗機(jī)尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米

重量:1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內(nèi)徑)320(長(zhǎng))毫米

配置:獨(dú)立配置4個(gè)清洗工位,DIW刀預(yù)清洗,2個(gè)雙面滾刷清洗,N2吹旋漂干

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學(xué):nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm

化學(xué)品供應(yīng):4個(gè)噴嘴和通過(guò)刷子

可用化學(xué):4化學(xué)

化學(xué)品流量:滿量程< 1l /min

DI流量:滿量程< 10l /min

轉(zhuǎn)站

旋轉(zhuǎn)速度:最高2500轉(zhuǎn)/

DIW沖洗/ N2(可選:強(qiáng))

控制

工藝:自動(dòng)上片,自動(dòng)順序,濕進(jìn)/干出

程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控,程序可編程,計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)可比



1. 規(guī)格

拋光機(jī)部分機(jī)頭,工作臺(tái):30- 200rpm,旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),機(jī)頭振蕩(±15mm)

拋光機(jī)尺寸:1626 *1500 *1950毫米

重量:2500公斤壓板尺寸:Φ 762毫米(30英寸),特氟龍涂層鋁

壓制方式:可變空氣

壓力電子控制器膜類型:70-350/平方厘米(1 psi~5 psi)12"晶圓片

CMP制程:Si CMP、氧化物CMP(BPSG、TEOS、SC)、金屬CMP(W、Cu)、STI、PGI

2. 可添加選項(xiàng)

墊式調(diào)理方法:擺頭式或擺臂式

單頭或雙頭系統(tǒng)

摩擦力和溫度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)

3. 清潔

清洗機(jī)尺寸:w3050 / d1250 / h1960毫米

重量:1200公斤電刷尺寸:270(外徑)032(內(nèi)徑)320(長(zhǎng))毫米

配置:獨(dú)立配置4個(gè)清洗工位,DIW刀預(yù)清洗,2個(gè)雙面滾刷清洗,N2吹旋漂干

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗,工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學(xué):nh4oh<1%)或DIW

刷型:雙面PVA

轉(zhuǎn)速:<滿量程的±2%范圍30~300rpm

化學(xué)品供應(yīng):4個(gè)噴嘴和通過(guò)刷子

可用化學(xué):4化學(xué)

化學(xué)品流量:滿量程< 1l /min

DI流量:滿量程< 10l /min

轉(zhuǎn)站

旋轉(zhuǎn)速度:2500轉(zhuǎn)/

DIW沖洗/ N2(可選:強(qiáng)掃)

控制

工藝:自動(dòng)上片,自動(dòng)順序,濕進(jìn)/干出

程序控制:PC &觸摸屏監(jiān)控,程序可編程,計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)可比

CMP

G&P旗下的GNP POLI-PCB系列CMP主要運(yùn)用于研發(fā),

CMP

GnP POLI-610專為藍(lán)寶石等復(fù)合晶圓的CMP工藝開(kāi)發(fā)而設(shè)計(jì)。特

CMP

GNP POLI-762是高通用性12英寸(300mm) CMP工藝而

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