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  • PD-3800L PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議

    PD-3800L PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)是一種能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非晶硅）的鎖載等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)。
    型號： 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：日本 對比
    PECVD化學氣相沉積等離子體薄膜沉積
    2026/3/12 15:26:1222

  • PD-220NL PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議

    PD-220NL PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)是一種負載鎖定等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和非...
    型號： 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：日本 對比
    PECVD等離子體化學氣相沉積薄膜沉積
    2026/3/12 15:14:3318

  • PD-2201LC PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng) 參考價：面議

    PD-2201LC PECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)是一種盒式裝載等離子體增強化學氣相沉積 (PECVD) 設備，能夠沉積硅基薄膜（氧化硅、氮化硅、氧氮化硅和...
    型號： 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商所在地：日本 對比
    PECVD等離子體化學氣相沉積薄膜沉積
    2026/3/12 15:04:2419
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