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SILAYO PEALD 光學(xué)涂層原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
SILAYO PEALD 光學(xué)涂層原子層沉積系統(tǒng)擴(kuò)展了 SENTECH ALD 和 PEALD 產(chǎn)品組合，適用于 330 毫米基底和三維基底的沉積。
SI PEALD等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
SI PEALD等離子體增強(qiáng)原子層沉積系統(tǒng)能夠在低溫下均勻且貼合地涂層敏感基底和層。樣品表面提供高通量的反應(yīng)性氣體，無需紫外線或離子轟擊。
Beneq C2R ALD空間原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Beneq C2R ALD空間原子層沉積系統(tǒng)將等離子體增強(qiáng)原子層沉積 （PEALD） 工藝提升到一個(gè)全新的水平 – PEALD 可用于大批量生產(chǎn)。由于采用等離子...
Genesis ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Genesis ALD原子層沉積系統(tǒng)適用于電池、太陽(yáng)能和柔性電子設(shè)備的功能性ALD涂層。Genesis ALD非常適合涂覆任何卷狀基材，并適用于多種功能應(yīng)用。
Beneq P1500 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Beneq P1500 ALD原子層沉積系統(tǒng)是我們最大的ALD系統(tǒng)，專門用于涂層大片板材和復(fù)雜零件。它還設(shè)計(jì)用于提高批量較小部件的吞吐量。我們的客戶使用P150...
Beneq P800 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Beneq P800 ALD原子層沉積系統(tǒng)專門設(shè)計(jì)用于涂覆復(fù)雜形狀的大件或大批量的小件。我們的客戶使用P800用于光學(xué)涂層、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐蝕涂層，以及用于...
Beneq P400A ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Beneq P400A ALD原子層沉積系統(tǒng)專為不同類型的基材進(jìn)行優(yōu)化批次尺寸的涂層而設(shè)計(jì)——體積足夠大以提供顯著容量，同時(shí)又足夠小以保持批次間優(yōu)異的均勻性和短...
Beneq Transform® 300 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Beneq Transform? 300 ALD原子層沉積系統(tǒng)是一款高度多功能的制造平臺(tái)，面向?qū)Ｗ⒂?CIS、電源、微型 OLED/LED、優(yōu)良封裝及其他 Mt...
Beneq TFS 500 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Beneq TFS 500 ALD原子層沉積系統(tǒng)是一款經(jīng)過驗(yàn)證且適應(yīng)性強(qiáng)的ALD反應(yīng)堆，適合高級(jí)研究和可靠的批次處理。作為Beneq反應(yīng)堆系列的原始型號(hào)，它在多...
Beneq Prodigy™ ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Beneq Prodigy? ALD原子層沉積系統(tǒng)是VCSEL、LED和MEMS制造商及代工廠的理想制造解決方案，旨在通過一款經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的獨(dú)立ALD批處理工具提升...
Beneq Transform ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Beneq Transform ALD原子層沉積系統(tǒng)是一款A(yù)LD集群工具，專為電力電子（SiC、GaN、Si）、射頻、光電子、微型LED、MEMS和傳感器領(lǐng)域的...
Atomfab ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Atomfab ALD原子層沉積系統(tǒng)為GaN功率器件和射頻器件提供快速、低損傷、低運(yùn)營(yíng)維護(hù)成本的等離子體原子層沉積（ALD）加工。
PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng)基于經(jīng)過生產(chǎn)驗(yàn)證的企業(yè)/專業(yè)研發(fā)平臺(tái)，旨在形成可集成到器件中的優(yōu)質(zhì)薄膜。它足夠靈活，可以進(jìn)行多種化學(xué)反應(yīng)，并可實(shí)...
FlexAL ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
FlexAL ALD原子層沉積系統(tǒng)可提供遠(yuǎn)程等離子體原子層沉積（ALD），這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計(jì)提供了一系列新的靈活性和可行性。
Fiji ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Fiji ALD原子層沉積系統(tǒng)是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng)，采用靈活的架構(gòu)和多種前驅(qū)體和等離子體氣體配置，可適應(yīng)各種沉積模式。Fiji 是下一代 ALD...
Savannah ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Savannah ALD原子層沉積系統(tǒng)已成為全球從事ALD研究、尋求經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且穩(wěn)健平臺(tái)的大學(xué)研究人員優(yōu)先的系統(tǒng)。過去十年中，我們已交付數(shù)百套此類系統(tǒng)。Savan...
Phoenix ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Phoenix ALD原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)旨在實(shí)現(xiàn)高通量和最大運(yùn)行時(shí)間，適用于從試點(diǎn)生產(chǎn)到工業(yè)級(jí)制造的任何制造環(huán)境。Phoenix?支持多達(dá)六條獨(dú)立前驅(qū)體線，根據(jù)...
ALD-150LE™原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
ALD-150LE?原子層沉積系統(tǒng)是我們實(shí)惠但極其靈活性的原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，專為入門到中級(jí)用戶設(shè)計(jì)。該ALD150LE?配置為純熱ALD設(shè)計(jì)，其獨(dú)特的工...
ALD-150LX™原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
ALD-150LX?原子層沉積系統(tǒng)是一套專為優(yōu)良研發(fā)（R&D）應(yīng)用設(shè)計(jì)的原子層沉積（ALD）系統(tǒng)。創(chuàng)新的ALD150LX設(shè)計(jì)特性，如我們的前體聚焦技術(shù)?，以及超...
Beneq TFS 200原子層沉積ALD 參考價(jià)：面議
Beneq TFS 200原子層沉積ALD為學(xué)術(shù)和企業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)，是一款高度多功能的原子層沉積（ALD）平臺(tái)，在真正的 ALD 模式下提供出色的膠片質(zhì)量。 系統(tǒng)的...
NCE-200R原子層沉積ALD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
NCE-200R原子層沉積ALD系統(tǒng)，基于表面自限制反應(yīng)原理實(shí)現(xiàn)原子級(jí)精度薄膜生長(zhǎng)，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、MEMS、光伏、儲(chǔ)能等前沿領(lǐng)域。該系統(tǒng)核心優(yōu)勢(shì)在于超高沉積...
MNT-D雙腔型原子層沉積ALD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
MNT-D雙腔型原子層沉積ALD系統(tǒng)采用噴淋模式雙腔反應(yīng)腔設(shè)計(jì)，核心面向高效研發(fā)與中試生產(chǎn)場(chǎng)景，可制備原子級(jí)精度的高質(zhì)量薄膜，廣泛適配半導(dǎo)體、微電子、能源存儲(chǔ)、...
MNT-S單腔型原子層沉積ALD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
MNT-S單腔型原子層沉積ALD系統(tǒng)主打科研研發(fā)與中小規(guī)模量產(chǎn)場(chǎng)景，可覆蓋 4 英寸至 12 英寸襯底的高精度納米薄膜沉積需求，是國(guó)內(nèi) ALD 設(shè)備領(lǐng)域的主流選...
MNT-G手套箱集成型原子層沉積ALD系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
MNT-G手套箱集成型原子層沉積ALD系統(tǒng)是一種高度專業(yè)化的薄膜制備設(shè)備。它將原子層沉積的高精度薄膜生長(zhǎng)能力，與手套箱的惰性氣氛保護(hù)環(huán)境無縫結(jié)合，專門用于研發(fā)那...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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