Depolab 200 PECVD 開放蓋化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)具有堅(jiān)固的設(shè)計(jì)、可靠性和靈活的軟硬件。該系統(tǒng)開發(fā)了多種工藝，例如高品質(zhì)氮化硅和氧化硅層沉積。該系統(tǒng)包括帶燃?xì)庀涞姆磻?yīng)器單元、控制電子設(shè)備、計(jì)算機(jī)、倒車泵和主連接箱。

主要特點(diǎn)與優(yōu)勢

Depolab 200 PECVD 開放蓋化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是一種性價(jià)比高的等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）系統(tǒng)，結(jié)合了平行板電極設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)均勻薄膜沉積的優(yōu)勢和靈活的直接載荷設(shè)計(jì)。從2英寸到200毫米晶圓和樣品件的標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)用開始。

成本效益                         

該系統(tǒng)結(jié)合了平行板等離子源設(shè)計(jì)與直接加載。                                 

可升級性                                     

根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì)，SENTECH Depolab 200可升級為更大的泵機(jī)、低頻電源以控制應(yīng)力，并增加燃?xì)夤芫€。

作系統(tǒng)                                                   

用戶友好且強(qiáng)大的軟件包含圖形界面、參數(shù)窗口、配方編輯器、數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。