PlasmaPro 800 PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)為大批量晶圓和 300mm 晶圓的等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積 （PECVD） 工藝提供了靈活的解決方案，它采用了緊湊的開放式裝載系統(tǒng)?？蓪?shí)現(xiàn)大型晶圓大規(guī)模的批量生產(chǎn)和 300mm 晶圓處理。

高性能工藝

準(zhǔn)確的襯底溫度控制

準(zhǔn)確的工藝控制

成熟的300mm單晶圓失效分析工藝

產(chǎn)品特點(diǎn)：                                         

為化合物半導(dǎo)體、光電子和光子學(xué)應(yīng)用提供了更為靈活的工藝，PlasmaPro 800 PECVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)可提供：

大型電極 - 低成本                              

刻蝕終點(diǎn)監(jiān)測 - 可靠性和可維護(hù)性俱佳                   

通過激光干涉儀與/或發(fā)射光譜進(jìn)行終點(diǎn)監(jiān)測 - 增強(qiáng)刻蝕控制

可選擇帶有4-、8-或12-條氣路的氣柜 - 可提供靈活的工藝和工藝氣體，可以與主機(jī)分離，放置在遠(yuǎn)端服務(wù)區(qū)

近距離耦合渦輪泵 - 提供優(yōu)異的泵送速度加快氣體的流動速度

數(shù)據(jù)記錄 - 追溯腔室的歷史狀態(tài)以及工藝條件

液體冷卻和/或電加熱電極 - 出色的電極溫度控制和穩(wěn)定性