SILAYO PEALD 光學(xué)涂層原子層沉積系統(tǒng)擴(kuò)展了 SENTECH ALD 和 PEALD 產(chǎn)品組合，適用于 330 毫米基底和三維基底的沉積。為了確保層厚的均勻性和一致性，PEALD用于沉積光學(xué)薄膜，如防反射涂層或光學(xué)濾光系統(tǒng)。SILAYO PEALD 光學(xué)涂層原子層沉積系統(tǒng)利用SENTECH平面三螺旋天線（PTSA）感應(yīng)耦合等離子體（ICP）源的優(yōu)勢(shì)進(jìn)行PEALD處理。

主要特點(diǎn)與優(yōu)勢(shì)                                           

PEALD最佳薄膜均勻性<1%

SENTECH SILAYO等離子體增強(qiáng)原子層沉積（PEALD）系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于大型三維物體及批量小型基底上的共形和均質(zhì)光學(xué)涂層。SENTECH專有的平面三螺旋天線（PTSA）為均勻光學(xué)涂層提供均勻等離子體。                       

樣品直徑可達(dá)330毫米，高度可達(dá)100毫米                    

SENTECH SILAYO PEALD 系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)均勻涂層，樣品直徑可達(dá)330毫米，垂直尺寸可達(dá)100毫米。

利用射頻偏置進(jìn)行應(yīng)力控制

可選的射頻偏置基板電極允許修改層的性質(zhì)（如應(yīng)力和折射率）。