nano PVD-T15A物理氣相沉積系統(tǒng)是一種臺(tái)式蒸發(fā)系統(tǒng)，優(yōu)化用于沉積各種高熔點(diǎn)金屬和揮發(fā)性有機(jī)物。體積緊湊如電子顯微鏡涂層機(jī)，但配備優(yōu)良硬件以實(shí)現(xiàn)研究級(jí)效果。                                                            

nano PVD-T15A物理氣相沉積系統(tǒng)優(yōu)化用于熱蒸發(fā)到直徑達(dá)4英寸的基材上。它可以配備標(biāo)準(zhǔn)的電阻蒸發(fā)源和/或低溫蒸發(fā)（LTE）源，分別用于沉積金屬和有機(jī)物。

LTE源具有低熱質(zhì)量，便于更好地控制揮發(fā)性有機(jī)物蒸發(fā)，而金屬源則采用我們的盒狀屏蔽TE1模型，實(shí)現(xiàn)高效沉積和減少交叉污染。

艙室通過(guò)一個(gè)帶鉸鏈的蓋子進(jìn)入，打開(kāi)后露出適合容納直徑不超過(guò)4英寸基底的舞臺(tái)。腔體較高，便于通過(guò)蒸發(fā)技術(shù)實(shí)現(xiàn)高均勻性涂層。

這些設(shè)備通過(guò)觸摸屏HMI界面易于控制，維護(hù)簡(jiǎn)便，運(yùn)行成本低，并配備全面的安全配置。                                                

憑借渦輪分子泵系統(tǒng)、高真空基壓、通過(guò)觸摸屏HMI實(shí)現(xiàn)的簡(jiǎn)單自動(dòng)控制以及多種靈活配置選項(xiàng)，nanoPVD-T15A是一款多功能高效的研發(fā)解決方案。