MiniLab 026 PVD物理氣相沉積系統(tǒng)是緊湊型落地式真空蒸發(fā)器，配備易于取用的“蛤殼"腔室。適用于金屬、介質(zhì)和有機(jī)物的蒸發(fā)或?yàn)R射沉積技術(shù)。

MiniLab 026 PVD物理氣相沉積系統(tǒng)緊湊型，兼容手套箱，并優(yōu)化用于磁控管濺射或熱蒸發(fā)技術(shù)，適用于直徑不超過(guò)6英寸的基板。

技術(shù)包括熱蒸發(fā)源和低溫蒸發(fā)源（針對(duì)金屬和有機(jī)物），或磁控管濺射源（針對(duì)金屬和無(wú)機(jī)物）。沉積源通常安裝在腔體底板上?；碾A段由屋頂支撐，可容納直徑最高達(dá)6英寸的基底尺寸。支持基底加熱、旋轉(zhuǎn)和Z位移。MiniLab 026 還兼容手套箱，是 MiniLab 系列中可以輕松改裝到現(xiàn)有手套箱上的系統(tǒng)。

主要特征                

模塊化設(shè)計(jì)              

“蛤殼"腔室             

渦輪分子泵送系統(tǒng)              

基礎(chǔ)壓力<5×10-7毫巴                  

直徑可達(dá)6英寸的基材               

最多3個(gè)源                        

觸摸屏HMI/PC用于系統(tǒng)控制                         

配備便于維護(hù)的設(shè)備               

全面的安全功能與聯(lián)鎖裝置

無(wú)塵室兼容                 

經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的性能

手套箱兼容