Genesis ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Genesis ALD原子層沉積系統(tǒng)適用于電池、太陽(yáng)能和柔性電子設(shè)備的功能性ALD涂層。Genesis ALD非常適合涂覆任何卷狀基材,并適用于多種功能應(yīng)用。Beneq P1500 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Beneq P1500 ALD原子層沉積系統(tǒng)是我們最大的ALD系統(tǒng),專(zhuān)門(mén)用于涂層大片板材和復(fù)雜零件。它還設(shè)計(jì)用于提高批量較小部件的吞吐量。我們的客戶(hù)使用P150...Beneq P800 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Beneq P800 ALD原子層沉積系統(tǒng)專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)用于涂覆復(fù)雜形狀的大件或大批量的小件。我們的客戶(hù)使用P800用于光學(xué)涂層、半導(dǎo)體設(shè)備部件的防腐蝕涂層,以及用于...Beneq P400A ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Beneq P400A ALD原子層沉積系統(tǒng)專(zhuān)為不同類(lèi)型的基材進(jìn)行優(yōu)化批次尺寸的涂層而設(shè)計(jì)——體積足夠大以提供顯著容量,同時(shí)又足夠小以保持批次間優(yōu)異的均勻性和短...Beneq Transform® 300 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Beneq Transform? 300 ALD原子層沉積系統(tǒng)是一款高度多功能的制造平臺(tái),面向?qū)W⒂?CIS、電源、微型 OLED/LED、優(yōu)良封裝及其他 Mt...Beneq TFS 500 ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Beneq TFS 500 ALD原子層沉積系統(tǒng)是一款經(jīng)過(guò)驗(yàn)證且適應(yīng)性強(qiáng)的ALD反應(yīng)堆,適合高級(jí)研究和可靠的批次處理。作為Beneq反應(yīng)堆系列的原始型號(hào),它在多...Beneq Prodigy™ ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Beneq Prodigy? ALD原子層沉積系統(tǒng)是VCSEL、LED和MEMS制造商及代工廠的理想制造解決方案,旨在通過(guò)一款經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的獨(dú)立ALD批處理工具提升...Beneq Transform ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Beneq Transform ALD原子層沉積系統(tǒng)是一款A(yù)LD集群工具,專(zhuān)為電力電子(SiC、GaN、Si)、射頻、光電子、微型LED、MEMS和傳感器領(lǐng)域的...Atomfab ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Atomfab ALD原子層沉積系統(tǒng)為GaN功率器件和射頻器件提供快速、低損傷、低運(yùn)營(yíng)維護(hù)成本的等離子體原子層沉積(ALD)加工。PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
PlasmaPro ASP ALD原子層沉積系統(tǒng)基于經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的企業(yè)/專(zhuān)業(yè)研發(fā)平臺(tái),旨在形成可集成到器件中的優(yōu)質(zhì)薄膜。它足夠靈活,可以進(jìn)行多種化學(xué)反應(yīng),并可實(shí)...FlexAL ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
FlexAL ALD原子層沉積系統(tǒng)可提供遠(yuǎn)程等離子體原子層沉積(ALD),這為納米結(jié)構(gòu)和器件的工程設(shè)計(jì)提供了一系列新的靈活性和可行性。Fiji ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Fiji ALD原子層沉積系統(tǒng)是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng),采用靈活的架構(gòu)和多種前驅(qū)體和等離子體氣體配置,可適應(yīng)各種沉積模式。Fiji 是下一代 ALD...Savannah ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Savannah ALD原子層沉積系統(tǒng)已成為全球從事ALD研究、尋求經(jīng)濟(jì)實(shí)惠且穩(wěn)健平臺(tái)的大學(xué)研究人員優(yōu)先的系統(tǒng)。過(guò)去十年中,我們已交付數(shù)百套此類(lèi)系統(tǒng)。Savan...Phoenix ALD原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Phoenix ALD原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計(jì)旨在實(shí)現(xiàn)高通量和最大運(yùn)行時(shí)間,適用于從試點(diǎn)生產(chǎn)到工業(yè)級(jí)制造的任何制造環(huán)境。Phoenix?支持多達(dá)六條獨(dú)立前驅(qū)體線(xiàn),根據(jù)...ALD-150LE™原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
ALD-150LE?原子層沉積系統(tǒng)是我們實(shí)惠但極其靈活性的原子層沉積(ALD)系統(tǒng),專(zhuān)為入門(mén)到中級(jí)用戶(hù)設(shè)計(jì)。該ALD150LE?配置為純熱ALD設(shè)計(jì),其獨(dú)特的工...ALD-150LX™原子層沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
ALD-150LX?原子層沉積系統(tǒng)是一套專(zhuān)為優(yōu)良研發(fā)(R&D)應(yīng)用設(shè)計(jì)的原子層沉積(ALD)系統(tǒng)。創(chuàng)新的ALD150LX設(shè)計(jì)特性,如我們的前體聚焦技術(shù)?,以及超...PVD-BATCH DRUM SERIES物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
PVD-BATCH DRUM SERIES物理氣相沉積系統(tǒng)由兩種標(biāo)準(zhǔn)尺寸(PVD 200 和 PVD 500)組成,可配置為水平或垂直配置。當(dāng)顆粒物是一個(gè)主要問(wèn)...Super-SPECTROS™ 200物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Super-SPECTROS? 200物理氣相沉積系統(tǒng)是一套優(yōu)良的有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng),針對(duì)有機(jī)材料沉積進(jìn)行了優(yōu)化。它能夠?qū)崿F(xiàn)精確的薄膜沉積控制,可沉積多種...SPECTROS™ 150物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
SPECTROS? 150物理氣相沉積系統(tǒng)是基于SPECTROS平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺(tái)在全球服役超過(guò)100臺(tái),是一款經(jīng)過(guò)驗(yàn)證、堅(jiān)固且多功...Mini SPECTROS物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
Mini SPECTROS物理氣相沉積系統(tǒng)是基于主力SPECTROS平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺(tái)在全球服役超過(guò)100臺(tái),是一款經(jīng)過(guò)驗(yàn)證、堅(jiān)固且...CMS Series物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
CMS Series物理氣相沉積系統(tǒng)極其強(qiáng)大的優(yōu)良研究工具設(shè)計(jì)用于適應(yīng)特定的薄膜應(yīng)用,如 GMR、CMS、半導(dǎo)體、納米級(jí)器件、光子學(xué)和光伏。經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)測(cè)試和驗(yàn)證的...LAB Line物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
LAB Line物理氣相沉積系統(tǒng)專(zhuān)為磁控管濺射沉積設(shè)計(jì)。該創(chuàng)新設(shè)計(jì)的優(yōu)勢(shì)包括專(zhuān)為超高真空濺射工藝需求量身定制的腔體設(shè)計(jì)、業(yè)內(nèi)最佳軟件控制系統(tǒng)、具備*編程功能、負(fù)...PRO Line PVD 200物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
PRO Line PVD 200物理氣相沉積系統(tǒng)是一款模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng),支持8英寸晶圓轉(zhuǎn)印、最多8個(gè)濺射陰極和eKLipse高級(jí)控制軟件。全球服役...PRO Line PVD 75物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià):面議
PRO Line PVD 75物理氣相沉積系統(tǒng)是基于主力PVD 75平臺(tái)的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。PVD 75在全球服役超過(guò)400臺(tái),是一款經(jīng)過(guò)驗(yàn)證、堅(jiān)固且多功能的...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)