SC3080 12英寸單片清洗設(shè)備 參考價(jià)：面議
SC3080 12英寸單片清洗設(shè)備可同時(shí)配備多種藥液，主要用于12英寸后段和前段清洗工藝。該機(jī)臺(tái)主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給模塊、電源柜等組成，標(biāo)配8個(gè)腔...
Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備 參考價(jià)：面議
Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機(jī)臺(tái)主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源柜...
APS Series感應(yīng)式SiC長晶爐 參考價(jià)：面議
APS Series感應(yīng)式SiC長晶爐適用于6/8英寸導(dǎo)電和高純半絕緣型SiC晶體生長，創(chuàng)新的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，可提供高純材料生長能力，擁有高精度的控溫、控壓能力，工藝...
NVT-HG單晶生長爐 參考價(jià)：面議
NVT-HG單晶生長爐主于光伏產(chǎn)業(yè)8-12英寸單晶硅制備工藝，該機(jī)臺(tái)具有大投料量，高拉速，低能耗，自動(dòng)化、智能化的優(yōu)點(diǎn)。能夠進(jìn)行全自動(dòng)并進(jìn)行工藝處理。系統(tǒng)主要由...
GAMA Series 6/8英寸全自動(dòng)槽式清洗機(jī) 參考價(jià)：面議
GAMA Series 6/8英寸全自動(dòng)槽式清洗機(jī)滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應(yīng)用，可用于典型0.35...
HORIC L200臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
HORIC L200臥式低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)，主要用于半導(dǎo)體產(chǎn)線8英寸及以下晶圓淀積SiN、POLY、SiO?等薄膜，設(shè)備工藝性能好、產(chǎn)能大、可靠性高，可滿足半...
Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Esther E320R 8英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)主要用于體硅外延、埋層外延、選擇性外延等多種特色工藝的運(yùn)行。該設(shè)備主要由傳輸系統(tǒng)模塊、工藝腔室模塊、壓力控制模...
eVictor PVD Al金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
eVictor PVD Al金屬鋁薄膜物理氣相沉積系統(tǒng)，適用于12英寸集成電路領(lǐng)域，是一款PVD設(shè)備。該系統(tǒng)集成高溫去氣、等離子體預(yù)清洗、高溫Al、TaN、TT...
NMC 508RIE介質(zhì)等離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
NMC 508RIE介質(zhì)等離子刻蝕機(jī)為電容耦合等離子體干法刻蝕機(jī)，適用6/8英寸介質(zhì)層刻蝕工藝，具有高刻蝕速率和均勻性，工藝類型覆蓋前道和后道所有介質(zhì)刻蝕。該機(jī)...
NMC 508M金屬等離子刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
NMC 508M金屬等離子刻蝕機(jī)，適用6/8英寸金屬干法刻蝕工藝。具備良好的鋁線形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢(shì)。該機(jī)臺(tái)為多腔室集...
NMC 508CG多晶硅等離子硅刻蝕機(jī) 參考價(jià)：面議
NMC 508CG多晶硅等離子硅刻蝕機(jī)適用6/8英寸多晶硅、硅等干法刻蝕工藝。具備良好的形貌控制能力、高刻蝕速率、高刻蝕均勻性、低顆粒/缺陷等性能優(yōu)勢(shì)。該機(jī)臺(tái)為...
Polaris Series硅通孔物理氣相沉積系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
Polaris Series硅通孔物理氣相沉積系統(tǒng)主要由大氣平臺(tái)，真空傳輸平臺(tái)，去氣腔室，預(yù)清潔腔室和工藝腔室組成，設(shè)備采用Cluster Tool結(jié)構(gòu)，可配置...
奧林巴斯OLS5100激光共聚焦顯微鏡 參考價(jià)：面議
奧林巴斯OLS5100激光共聚焦顯微鏡專為失效分析和材料工程研究而設(shè)計(jì)，將出色的測(cè)量精度和光學(xué)性能與智能工具相結(jié)合，使顯微鏡使用起來更加方便。 它可以快速高效完...
Bio-Logic SP-200 電化學(xué)工作站 參考價(jià)：面議
法國Bio-Logic SP-200 電化學(xué)工作站是Bio-Logic研制的一代的研究級(jí)電化學(xué)工作站，其杰出的技術(shù)性能讓SP-200成為一款研究電化學(xué)尤其是研究...
華兆 FDM-10A 六軸連續(xù)纖維工業(yè)3D打印系統(tǒng) 參考價(jià)：面議
華兆 FDM-10A 六軸連續(xù)纖維工業(yè)3D打印系統(tǒng)為科研定制設(shè)備，設(shè)計(jì)用于工業(yè)級(jí)材料（PLA，PETG等）、PEEK、連續(xù)纖維等的FDM 3D打印科研驗(yàn)證任務(wù)，...
鉑力特BLT-S1300 3D打印機(jī) 參考價(jià)：面議
鉑力特BLT-S1300 3D打印機(jī)是超大幅面金屬增材制造設(shè)備，成形尺寸達(dá) 1300×1300×1400mm，配備 26 激光同步掃描，支持多種金屬材料。其動(dòng)態(tài)...
鉑力特BLT-S815 3D打印機(jī) 參考價(jià)：面議
鉑力特BLT-S815 3D打印機(jī)是 8 激光金屬 3D 打印機(jī)，面向航空航天大尺寸件研制與中型件批量生產(chǎn)，成形尺寸 800×800×1500mm。支持鈦合金、...
THEORIS A302 12英寸立式低溫退火爐 參考價(jià)：面議
THEORIS A302 12英寸立式低溫退火爐在中低溫條件下，通入N?、H?或D?等氣體，以消除硅片界面處金屬及非金屬晶格缺陷和晶格損傷，優(yōu)化硅片界面質(zhì)量，提...(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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